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光雕刻
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光電芯片制造重大突破！我國(guó)科學(xué)家首獲納米級(jí)光雕刻三維結(jié)構(gòu)
- 從技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)的角度來(lái)看，光芯片被認(rèn)為是與國(guó)外研究進(jìn)展差距最小的芯片技術(shù)，被寄予了中國(guó)“換道超車”的希望。 據(jù)媒體報(bào)道，9月14日晚，我國(guó)科學(xué)家在國(guó)際頂級(jí)學(xué)術(shù)期刊《自然》發(fā)表了最新研究，首次得到納米級(jí)光雕刻三維結(jié)構(gòu)，在下一代光電芯片制造領(lǐng)域的獲得重大突破。 這一重大發(fā)明，未來(lái)或可開(kāi)辟光電芯片制造新賽道，有望用于光電調(diào)制器、聲學(xué)濾波器、非易失鐵電存儲(chǔ)器等關(guān)鍵光電器件芯片制備，在5G/6G通訊、光計(jì)算、人工智能等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。 據(jù)介紹，南京大學(xué)張勇、肖敏、祝世寧領(lǐng)銜的科研團(tuán)隊(duì)，發(fā)明了一種新型“非
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光雕刻介紹
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