刻蝕文章進(jìn)入刻蝕技術(shù)社區(qū)

國內(nèi)首家掌握干法刻蝕的民營(yíng)企業(yè) 寶豐堂攻克“造芯”重要一環(huán)

摘要: 　　發(fā)展數(shù)字經(jīng)濟(jì)需要海量芯片支持，芯片制作需要半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)全力協(xié)同。受美國禁令影響，目前全球“缺芯”問題持續(xù)發(fā)酵，解決半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備“卡脖子”刻不容緩。　　作為登上廣東“專精特新”新品發(fā)布會(huì)(以下簡(jiǎn)稱 ...　　發(fā)展數(shù)字經(jīng)濟(jì)需要海量芯片支持，芯片制作需要半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)全力協(xié)同。受美國禁令影響，目前全球“缺芯”問題持續(xù)發(fā)酵，解決半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備“卡脖子”刻不容緩?！　∽鳛榈巧蠌V東“專精特新”新品發(fā)布會(huì)(以下簡(jiǎn)稱“新品發(fā)布會(huì)”)首場(chǎng)發(fā)布會(huì)的20家企業(yè)之一，珠海寶豐堂電子科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱“寶豐堂”)靠著
關(guān)鍵字：刻蝕等離子

中國上海，2018年3月13日電——中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司（以下簡(jiǎn)稱“中微”）在本周舉辦的SEMICON China期間正式發(fā)布了第一代電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備Primo nanova?，用于大批量生產(chǎn)存儲(chǔ)芯片和邏輯芯片的前道工序。該設(shè)備采用了中微具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的電感耦合等離子體刻蝕技術(shù)和許多創(chuàng)新的功能，以幫助客戶達(dá)到芯片制造工藝的關(guān)鍵指標(biāo)，例如關(guān)鍵尺寸（CD）刻蝕的精準(zhǔn)度、均勻性和重復(fù)性等。其創(chuàng)新的設(shè)計(jì)包括：完全對(duì)稱的反應(yīng)腔，超高的分子泵抽速；獨(dú)特的低電容耦合線圈設(shè)計(jì)和多區(qū)細(xì)分溫控靜電吸盤（E
關(guān)鍵字：中微半導(dǎo)體刻蝕

應(yīng)用將持續(xù)驅(qū)動(dòng)芯片業(yè)的發(fā)展。摩爾定律將繼續(xù)演進(jìn)，但形式正發(fā)生變化，從注重特征尺寸的縮小，正轉(zhuǎn)變到同時(shí)關(guān)注材料和結(jié)構(gòu)創(chuàng)新。預(yù)計(jì)中國半導(dǎo)體市場(chǎng)10年內(nèi)翻番，將帶來半導(dǎo)體制造的興盛。為了迎接10nm以下的挑戰(zhàn)，應(yīng)用材料公司近期推出了三款新產(chǎn)品。
關(guān)鍵字：晶圓材料工程設(shè)備刻蝕電子束 201612

今年IC China(一年一度在上海舉辦的業(yè)內(nèi)知名半導(dǎo)體展會(huì)和論壇)展會(huì)期間，先進(jìn)的設(shè)備制造商 -- 中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司(以下簡(jiǎn)稱“中微公司”)，將于本周三在上海世博展覽館，就其設(shè)計(jì)創(chuàng)新、技術(shù)領(lǐng)先的新一代刻蝕設(shè)備產(chǎn)品舉辦新聞發(fā)布會(huì)。
關(guān)鍵字：中微公司刻蝕

　　Schmid集團(tuán)的選擇性發(fā)射極技術(shù)通過自身出色的運(yùn)行情況證明其為市場(chǎng)上最有效的工藝技術(shù)。在競(jìng)爭(zhēng)更高效率的戰(zhàn)爭(zhēng)中，更多的電池生產(chǎn)商依賴于濕化學(xué)工藝;由Schmid濕法機(jī)器訂單越來越多可見一斑。無論是擴(kuò)展生產(chǎn)線還是升級(jí)現(xiàn)有生產(chǎn)線，Schmid的選擇性發(fā)射極技術(shù)繼續(xù)其成功之道。Schmid選擇性發(fā)射極刻蝕機(jī)最新訂單是八月中旬，來自一家中國的主要生產(chǎn)商。　　
關(guān)鍵字： Schmid 刻蝕

　　“工欲善其事，必先利其器。”集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展離不開裝備制造業(yè)的支撐，而裝備業(yè)的發(fā)展水平也是衡量一個(gè)國家集成電路產(chǎn)業(yè)總體水平的重要標(biāo)準(zhǔn)。近年來，我國集成電路裝備業(yè)取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步，12英寸設(shè)備在多個(gè)工序?qū)崿F(xiàn)國產(chǎn)化。但由于8英寸、12英寸集成電路生產(chǎn)線在我國仍有很大的發(fā)展空間，這也給國外的二手設(shè)備提供了用武之地，同時(shí)，也給從事設(shè)備翻新的企業(yè)提供了發(fā)展機(jī)遇。　　12英寸國產(chǎn)設(shè)備進(jìn)展顯著　　●多種核心裝備實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化　　●12英寸65納米是下階段重點(diǎn) 　　一條標(biāo)準(zhǔn)的集成電
關(guān)鍵字：半導(dǎo)體設(shè)備芯片制造光刻刻蝕

半導(dǎo)體工業(yè)中的等離子加工對(duì)于氟橡膠真空密封是一個(gè)富有挑戰(zhàn)性的環(huán)境。在高溫和等離子條件下實(shí)現(xiàn)的密封能力...
關(guān)鍵字：氟橡膠刻蝕

電信業(yè)的需求促使了其發(fā)展方向以光層架構(gòu)成本的大幅度下降為目標(biāo)，而該目標(biāo)的核心就是要減少不必要的光電轉(zhuǎn)換...
關(guān)鍵字： MEMS OXC 信道均衡微裂紋時(shí)間常數(shù) 光耦合可靠性鏡片傳動(dòng)器刻蝕

近日，應(yīng)用材料公司推出Centura® Carina™ Etch系統(tǒng)用于世界上最先進(jìn)晶體管的刻蝕。運(yùn)用創(chuàng)新的高溫技術(shù)，它能提供45納米及更小技術(shù)節(jié)點(diǎn)上采用高K介電常數(shù)/金屬柵極(HK/MG)的邏輯和存儲(chǔ)器件工藝擴(kuò)展所必需的材料刻蝕輪廓，是目前唯一具有上述能力并可以用于生產(chǎn)的解決方案。應(yīng)用材料公司的Carina技術(shù)具有獨(dú)一無二的表現(xiàn)，它能達(dá)到毫不妥協(xié)的關(guān)鍵刻蝕參數(shù)要求：平坦垂直，側(cè)邊輪廓不含任何硅材料凹陷，同時(shí)沒有任何副產(chǎn)品殘留物。應(yīng)用材料公司資深副總裁、硅系統(tǒng)業(yè)務(wù)
關(guān)鍵字：測(cè)試測(cè)量應(yīng)用材料晶體管刻蝕 IC 制造制程

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