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化學機械拋光文章進入化學機械拋光技術社區(qū)

利用縫隙抑制型鎢填充接觸區(qū)工藝來降低良率損失

在早先的技術節(jié)點中，由于器件尺寸較大，能采用成核及平整化化學氣相沉積(CVD)技術進行鎢(W)填充。如今，由于插塞處的超小開口很容易發(fā)生懸垂現(xiàn)象，因此薄膜表面均勻生長的共形階段可能在填充完成前就關閉或夾斷，從而留下孔洞。
關鍵字：化學氣相沉積良率化學機械拋光

化學機械拋光 Slurry 的蛻與進

岳飛曾說：“陣而后戰(zhàn)，兵法之常，運用之妙，存乎一心?！币馑际钦f，擺好陣勢以后出戰(zhàn)，這是打仗的常規(guī)，但運用的巧妙靈活...
關鍵字： IC制造 slurry 化學機械拋光

共2條 1/1 1

化學機械拋光介紹

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化學機械拋光專欄文章

藍寶石在化學機械拋光過程中的材料去除機理

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