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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 化學氣相沉積

化學氣相沉積文章進入化學氣相沉積技術社區(qū)

利用縫隙抑制型鎢填充接觸區(qū)工藝來降低良率損失

在早先的技術節(jié)點中，由于器件尺寸較大，能采用成核及平整化化學氣相沉積(CVD)技術進行鎢(W)填充。如今，由于插塞處的超小開口很容易發(fā)生懸垂現(xiàn)象，因此薄膜表面均勻生長的共形階段可能在填充完成前就關閉或夾斷，從而留下孔洞。
關鍵字：化學氣相沉積良率化學機械拋光

共1條 1/1 1

化學氣相沉積介紹

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