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美國材料信息學(xué)會和日立國際電氣簽署原子層沉積技術(shù)授權(quán)協(xié)議
- 美國材料信息學(xué)會(ASM International)與日立國際電氣(Hitachi Kokusai Electric Inc.，東京證券交易所(一部)和大阪證券交易所(一部))宣布，雙方已簽署一項授權(quán)協(xié)議。根據(jù)此項協(xié)議，美國材料信息學(xué)會將把原子層沉積技術(shù)專利在批次式原子層沉積領(lǐng)域的使用權(quán)授予日立國際電氣。協(xié)議的詳細(xì)條款未對外披露。 多年來，美國材料信息學(xué)會一直是原子層沉積領(lǐng)域的先驅(qū)，擁有大量專利，包括原子層沉積專利以及在豎爐中成批實施原子層沉積的技術(shù)專利。這一技術(shù)使得在豎爐中實施原子層沉積并同
- 關(guān)鍵字： 消費(fèi)電子 日立 大阪 原子層 消費(fèi)電子
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原子層介紹
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