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射頻源控制信號(hào)模擬器的設(shè)計(jì)與應(yīng)用
- 摘要：熟悉微電子工藝設(shè)備的人都知道，射頻源(RFGENERATER)是半導(dǎo)體工藝不可缺少的設(shè)備，其主要應(yīng)用于等離子體干法刻蝕設(shè)備。 熟悉微電子工藝設(shè)備的人都知道，射頻源(RFGENERATER)是半導(dǎo)體工藝不可缺少的設(shè)備，其主要應(yīng)用于等離子體干法刻蝕設(shè)備。其原理是刻蝕氣體(主要是F基和C1基的氣體)通過氣體流量控制系統(tǒng)通入反應(yīng)腔室，在高頻電場(chǎng)(頻率通常為13.56MHz)作用下產(chǎn)生輝光放電，使氣體分子或原子發(fā)生電離，形成等離子體(Plasma)。等離子體是包含足夠多的正負(fù)電荷數(shù)目近于相等的帶電粒子的
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