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	微影技術(shù)
          

          
	
          
    	
          
    	  	
          
              	
                                
          
                  

                                
          
                    
          半導(dǎo)體廠倚重EUV 先進(jìn)微影技術(shù)的強(qiáng)勁需求
          
                                                            
            
                    	
          • 微影設(shè)備業(yè)者ASML第一季已完成136臺(tái)極紫外光（EUV）曝光機(jī)出貨，累計(jì)超過7,000萬片晶圓完成EUV曝光。隨著EUV微影技術(shù)推進(jìn)，預(yù)期2025年之后新一代EUV曝光機(jī)每小時(shí)曝光產(chǎn)量可達(dá)220片以上，以因應(yīng)客戶端先進(jìn)制程推進(jìn)至埃米（Angstrom）世代對先進(jìn)微影技術(shù)的強(qiáng)勁需求。雖然2023年半導(dǎo)體市況能見度低且不確定性高，但包括臺(tái)積電、英特爾、三星、SK海力士、美光等全球前五大半導(dǎo)體廠仍積極投資EUV產(chǎn)能，加上制程推進(jìn)會(huì)帶動(dòng)光罩層數(shù)增加，法人樂觀看好家登、帆宣、公準(zhǔn)、意德士（等EUV概念股明年?duì)I運(yùn)將
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                        微影技術(shù)  ASML  EUV                          
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          三星跟隨英特爾和臺(tái)積電 5億歐元注資ASML公司
          
                                                            
            
                    	
          •  　　據(jù)外國媒體報(bào)道，荷蘭微影設(shè)備廠ASML宣布，三星公司已同意向ASML投資5.03億歐元(約合6.29億美元)，獲得該公司3%股權(quán)。此外，三星承諾在未來5年將向ASML公司投資2.76億歐元(約合3.45億美元)，支持ASML研發(fā)下一代微影技術(shù)。
　　此前，臺(tái)積電和英特爾公司已宣布分別以8.38億歐元和33億歐元收購ASML公司5%和15%股權(quán)。同時(shí)，臺(tái)積電公司承諾在未來5年向ASML投入2.76億歐元，用于ASML的研發(fā)計(jì)劃。
　　ASML公司之前曾邀英特爾、臺(tái)積電和三星等公司加入由其
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          • 關(guān)鍵字：
                        三星  微影技術(shù)                          
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          次世代微影技術(shù)主流之爭　
          
                                                            
            
                    	
          • 　　目前次世代微影技術(shù)發(fā)展仍尚未有主流出現(xiàn)，而身為深紫外光 (EUV)陣營主要推手之一的比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)總裁Luc Van den hove指出，EUV技術(shù)最快于2014年可望進(jìn)入量產(chǎn)，而應(yīng)用存儲(chǔ)器制程又將早于邏輯制程，他也指出，無光罩多重電子束恐怕來不及進(jìn)入量產(chǎn)。
　　
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                        微影技術(shù)  EUV                          
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          臺(tái)積電發(fā)布6月報(bào)告 營收環(huán)比增長5.3%
          
                                                            
            
                    	
          • 　　臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司(臺(tái)積電)10日公布2009年6月營收報(bào)告，就非合并財(cái)務(wù)報(bào)表方面，營收約為新臺(tái)幣257億7800萬元，較2009年5月增加了5.3%，較去年同期減少了9.6%。累計(jì)2009年1至6月營收約為新臺(tái)幣1095億5600萬元，較去年同期減少了35.9%。
　　就合并財(cái)務(wù)報(bào)表方面，2009年6月營收約為新臺(tái)幣265億1500萬元，較2009年5月增加了5.0%，較去年同期減少了10.0%;累計(jì)2009年1至6月營收約為新臺(tái)幣1137億1200萬元，較去年同期減少了35.3%。
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                        臺(tái)積電  22納米  微影技術(shù)                          
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          臺(tái)積電與CEA-Leti合作推動(dòng)無光罩微影技術(shù)
          
                                                            
            
                    	
          • 　　為積極朝向22納米制程技術(shù)前進(jìn)，臺(tái)積電宣布與法國半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)CEA-Leti簽訂合作協(xié)議，將參與由CEA-Leti主持的IMAGINE產(chǎn)業(yè)研究計(jì)畫，就半導(dǎo)體制造中的無光罩微影技術(shù)進(jìn)行合作，這項(xiàng)計(jì)畫為期3年。日前曾傳出，由于經(jīng)濟(jì)前景不明，部分設(shè)備商延后22納米制程技術(shù)研發(fā)，臺(tái)積電此舉則希望更積極主動(dòng)推動(dòng)22納米無光罩微影技術(shù)。
　　這次臺(tái)積電參與的CEA-Leti IMAGINE研究計(jì)畫為期3年，所有參與這項(xiàng)計(jì)畫的公司都可取得無光罩微影架構(gòu)供IC制造使用，也可以藉由設(shè)備商Mapper所提供的技術(shù)提高
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          • 關(guān)鍵字：
                        臺(tái)積電  22納米  微影技術(shù)                          
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	共5條
	1/1															1								
	
          
		                
          
	               	
          
                
          
        	
          
            
          
        
          
	
          
	
          
  		
          
    		
          
      			
          
          			
          微影技術(shù)介紹
          
      			
          
		      	
          
		      			      			      	　　微影技術(shù)(Lithography)是制造晶體管及它們之間的連結(jié)的關(guān)鍵技術(shù)，在半導(dǎo)體制程上較狹義之定義，一般是指以光子束經(jīng)由圖罩(Mask, Reticle)對晶圓(Wafer)上之阻劑照射；以電子束、離子束經(jīng)由圖罩、圖規(guī)(Stencil)對阻劑照射；或不經(jīng)由圖罩、圖規(guī)，對阻劑直接照射（直寫），使阻劑產(chǎn)生極性變化、主鏈斷鏈、主鏈交連等化學(xué)作用，經(jīng)顯影后將圖罩、圖規(guī)或直寫之特定圖案轉(zhuǎn)移至晶圓。　　		      	[ 查看詳細(xì) ]
		      			      	
          
    		
          
  		
          
  		  		  		  		  		        		  		
          
    		
          
      			
          
        			
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