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掩膜
掩膜 文章 進(jìn)入掩膜技術(shù)社區(qū)
Vistec Lithography宣布與華中科技大簽署戰(zhàn)略合作伙伴協(xié)議
- 電子束光刻系統(tǒng)的知名廠商Vistec Lithography公司近日宣布他們與中國(guó)武漢華中科技大學(xué)光電工程學(xué)院簽署了戰(zhàn)略合作伙伴協(xié)議。武漢華中科技大學(xué)是大陸國(guó)家級(jí)重點(diǎn)院校之一，而 Vistec Lithography則是電子束光刻設(shè)備的領(lǐng)先廠商，按協(xié)議規(guī)定，兩家將在納米光刻技術(shù)研究和教學(xué)領(lǐng)域開(kāi)展合作。 這次合作的核心是Vistec公司提供給華中科技大學(xué)的EBPG5000pES電子束光刻系統(tǒng)，裝備這套系統(tǒng)之后，華中科技大學(xué)在教學(xué)，科研以及對(duì)外合作方面的實(shí)力將如虎添翼。華中科技大學(xué)稱：“
- 關(guān)鍵字： Vistec-Lithography 光刻 掩膜
德國(guó)建立32nm光刻掩膜研發(fā)項(xiàng)目
- 先進(jìn)掩膜技術(shù)中心（AMTC）、半導(dǎo)體設(shè)備供貨商Vistec和德國(guó)國(guó)家物理技術(shù)研究院（PTB）將共同完成研發(fā)下一代芯片生產(chǎn)技術(shù)和量測(cè)流程的開(kāi)發(fā)項(xiàng)目。 德國(guó)教育部對(duì)此代號(hào)為“CDuR32 （32nm掩膜光刻技術(shù)的核心演習(xí)和使用） ”的研發(fā)項(xiàng)目提供了部分資助。該項(xiàng)目的總預(yù)算資金為16.7百萬(wàn)歐元（約24.3百萬(wàn)），其中德國(guó)政府資助了7.9百萬(wàn)歐元。 該項(xiàng)目預(yù)計(jì)為期2.5年，旨在研發(fā)掩膜技術(shù)以用于今后其Dresden晶圓廠32nm存儲(chǔ)芯片和22nm微處理器的生產(chǎn)。AMTC由
- 關(guān)鍵字： 掩膜 AMTC 半導(dǎo)體 PTB
EUV掩膜版清洗—Intel的解決之道
- 對(duì)于極紫外（EUV）光刻技術(shù)而言，掩膜版相關(guān)的一系列問(wèn)題是其發(fā)展道路上必須跨越的鴻溝，而在這些之中又以如何解決掩膜版表面多層抗反射膜的污染問(wèn)題最為關(guān)鍵。自然界中普遍存在的碳和氧元素對(duì)于EUV光線具有極強(qiáng)的吸收能力。在Texas州Austin召開(kāi)的表面預(yù)處理和清洗會(huì)議上，針對(duì)EUV掩膜版清洗方面遇到的問(wèn)題和挑戰(zhàn)，Intel Corp. (Santa Clara, Calif.)的Ted Liang主持召開(kāi)了一次內(nèi)部討論，并在會(huì)上向與會(huì)的同仁報(bào)告了在這一領(lǐng)域Intel和Dai Nippon Printin
- 關(guān)鍵字： 光刻 EUV 掩膜 CMOS
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掩膜介紹
MASK(掩膜)：?jiǎn)纹瑱C(jī)掩膜是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機(jī)生產(chǎn)的過(guò)程中把程序做進(jìn)去。優(yōu)點(diǎn)是：程序可靠、成本低。缺點(diǎn)：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時(shí)生產(chǎn)，供貨周期長(zhǎng)。
在半導(dǎo)體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù)，用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜（也稱作“掩?！保?，其作用是：在硅片上選定的區(qū)域中對(duì)一個(gè)不透明的圖形模板掩膜，繼而下面的腐蝕或擴(kuò)散將只影響選 [ 查看詳細(xì) ]
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