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          納米壓印光刻技術(shù)旨在挑戰(zhàn)EUV

          • 9 月,佳能推出了這項(xiàng)技術(shù)的第一個商業(yè)版本,有朝一日可能會顛覆最先進(jìn)的硅芯片的制造。它被稱為納米壓印光刻 (NIL),能夠?qū)π≈?14 納米的電路特征進(jìn)行圖案化,使邏輯芯片能夠與目前正在量產(chǎn)的 Intel、AMD 和 Nvidia 處理器相媲美。NIL 系統(tǒng)提供的優(yōu)勢可能會挑戰(zhàn)價值 1.5 億美元的機(jī)器,這些機(jī)器在當(dāng)今先進(jìn)的芯片制造中占據(jù)主導(dǎo)地位,即極紫外 (EUV) 光刻掃描儀。如果佳能是正確的,其機(jī)器最終將以極低的成本提供 EUV 質(zhì)量的芯片。該公司的方法與 EUV 系統(tǒng)完全不同,后者完全由總部位于荷
          • 關(guān)鍵字: 納米壓印光刻技術(shù)  EUV?  佳能  新芯片制造系統(tǒng)  
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          新芯片制造系統(tǒng)介紹

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