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          EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 無(wú)需維護(hù)清洗

          泛林集團(tuán)自維護(hù)設(shè)備創(chuàng)生產(chǎn)率新紀(jì)錄

          • 上海 —— 近日,全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造設(shè)備及服務(wù)供應(yīng)商泛林集團(tuán)宣布其自維護(hù)設(shè)備創(chuàng)下半導(dǎo)體行業(yè)工藝流程生產(chǎn)率的新標(biāo)桿。通過與領(lǐng)先半導(dǎo)體制造商合作,泛林集團(tuán)成功實(shí)現(xiàn)了刻蝕工藝平臺(tái)全年無(wú)間斷運(yùn)行。在當(dāng)今半導(dǎo)體工藝環(huán)境中,平均清洗間隔時(shí)間是限制刻蝕系統(tǒng)生產(chǎn)率提高的主要因素。為了保持穩(wěn)定的性能,通常需要每月、甚至每周清洗刻蝕工藝腔室,并更換被等離子體工藝腐蝕的部件。2019 年 4 月,泛林集團(tuán)與客戶攜手達(dá)成了一項(xiàng)宏偉目標(biāo),實(shí)現(xiàn)設(shè)備在無(wú)需維護(hù)清洗的情況下連續(xù)運(yùn)行 365 天,創(chuàng)下里程碑式紀(jì)錄。泛林集團(tuán)自維護(hù)設(shè)備創(chuàng)生
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          無(wú)需維護(hù)清洗介紹

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