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晶體掩膜質(zhì)量控制檢
晶體掩膜質(zhì)量控制檢 文章 進(jìn)入晶體掩膜質(zhì)量控制檢技術(shù)社區(qū)
晶體和掩膜質(zhì)量控制檢測(cè)
- 在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，合格率影響成本，因此制造商從晶圓到包裝IC多步驟進(jìn)行產(chǎn)品檢測(cè)，以盡早發(fā)現(xiàn)缺陷。隨著光刻技術(shù)幾何尺寸越來(lái)越小，要求檢測(cè)系統(tǒng)能夠檢測(cè)深度不斷增加的深亞微米尺度（如，45nm、32nm、22nm......）。極端...
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晶體掩膜質(zhì)量控制檢介紹
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歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對(duì)晶體掩膜質(zhì)量控制檢的理解，并與今后在此搜索晶體掩膜質(zhì)量控制檢的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
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