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	極紫外光刻
          

          
	
          
    	
          
    	  	
          
              	
                                
          
                  

                                
          
                    
          極紫外光刻新技術問世，超越半導體制造業(yè)的標準界限
          
                                                            
            
                    	
          • 據(jù)科技日報報道稱，日本沖繩科學技術大學院大學（OIST）官網(wǎng)最新報告，該校設計了一種極紫外（EUV）光刻技術，超越了半導體制造業(yè)的標準界限。基于此設計的光刻設備可采用更小的EUV光源，其功耗還不到傳統(tǒng)EUV光刻機的十分之一，從而降低成本并大幅提高機器的可靠性和使用壽命。在傳統(tǒng)光學系統(tǒng)中，例如照相機、望遠鏡和傳統(tǒng)的紫外線光刻技術，光圈和透鏡等光學元件以軸對稱方式排列在一條直線上。這種方法并不適用于EUV射線，因為它們的波長極短，大多數(shù)會被材料吸收。因此，EUV光使用月牙形鏡子引導。但這又會導致光線偏離中心軸
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          • 關鍵字：
                        極紫外光刻  半導體制造  標準界限                          
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          EUV光刻機訂單少了？ASML下調(diào)Q1季度營收預期 暫停股票回購
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 由于COVID-19新冠病毒在全球的蔓延,多個行業(yè)的生產(chǎn)、消費都受到影響了,半導體行業(yè)也不例外。ASML公司今天宣布下調(diào)Q1季度營收預期,同時暫停股票回購,不過他們沒公布EUV光刻機出貨量是否受影響了。今年1月份ASML公司發(fā)布了2019年Q4及全年財報,2019年交付了26臺EUV光刻機,預計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。展望2020年Q1季度,ASML之前預計營收31到33億歐元之間,毛利率46%到47%之間,研發(fā)費用約為5.5億歐
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          • 關鍵字：
                        阿斯麥  光刻機  極紫外光刻                          
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          ASML研發(fā)下一代EUV光刻機：分辨率提升70% 逼近1nm極限
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。根據(jù)ASML之前的報告,去年他們出貨了26臺EUV光刻機,預計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮
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          • 關鍵字：
                        光刻機  極紫外光刻                          
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          ASML研發(fā)下一代EUV光刻機：分辨率提升70% 逼近1nm極限
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。根據(jù)ASML之前的報告,去年他們出貨了26臺EUV光刻機,預計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮
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          • 關鍵字：
                        光刻機  極紫外光刻                          
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          中芯國際稱7nm EUV光刻機問題已解決 技術研發(fā)步入正軌
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 在半導體工藝進入10nm節(jié)點之后，制造越來越困難，其中最復雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機了，而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機，日前該公司表示與ASML之間已解決光刻機的問題，EUV技術研發(fā)步入正軌。前不久有消息稱ASML停止對中芯國際供應EUV光刻機，隨后ASML公司表示不是停供，而是延期，主要是在準備該國政府的出口申請文本工作。中芯國際董事長周子學日前在韓國訪問，韓媒報道稱周子學表態(tài)已經(jīng)解決了與ASML之間就光刻機供應存在的問題，強調(diào)中芯國際在先進
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          • 關鍵字：
                        光刻機  極紫外光刻                          
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          ASML發(fā)布Q2季度財報 EUV光刻機產(chǎn)能大增
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 掌握全球唯一EUV光刻機研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財報，當季營收25.68億歐元，其中凈設備銷售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機，其中EUV光刻機7臺。
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          • 關鍵字：
                        阿斯麥  極紫外光刻  EUV                          
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          光刻膠材料的重大突破 極紫外光刻邁向實用
          
                                                            
            
                    	
          • 新式半導體光刻技術中，極紫外光刻(EUV)被認為是最有前途的方法之一，不過其實現(xiàn)難度也相當高，從上世紀八十年代 ...
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          • 關鍵字：
                        光刻膠  極紫外光刻                          
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	共7條
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          極紫外光刻介紹
          
      			
          
		      	
          
		      			      			      	　　目錄
　　1 定義
　　2 概述
　　3 背景
　　4 展望
　　定義
　　極紫外光刻（Extreme Ultraviolet Lithography），常稱作EUV光刻，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術。具體為采用波長為13.4nm 的軟x 射線。
　　概述
　　EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能		      	[ 查看詳細 ]
		      			      	
          
    		
          
  		
          
  		  		  		  		  		        		  		
          
    		
          
      			
          
        			
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(function(){
    var bp = document.createElement('script');
    var curProtocol = window.location.protocol.split(':')[0];
    if (curProtocol === 'https') {
        bp.src = 'https://zz.bdstatic.com/linksubmit/push.js';
    }
    else {
        bp.src = 'http://push.zhanzhang.baidu.com/push.js';
    }
    var s = document.getElementsByTagName("script")[0];
    s.parentNode.insertBefore(bp, s);
})();