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          極紫外光刻新技術(shù)問世，超越半導(dǎo)體制造業(yè)的標準界限
          
                                                            
            
                    	
          • 據(jù)科技日報報道稱，日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)（OIST）官網(wǎng)最新報告，該校設(shè)計了一種極紫外（EUV）光刻技術(shù)，超越了半導(dǎo)體制造業(yè)的標準界限?；诖嗽O(shè)計的光刻設(shè)備可采用更小的EUV光源，其功耗還不到傳統(tǒng)EUV光刻機的十分之一，從而降低成本并大幅提高機器的可靠性和使用壽命。在傳統(tǒng)光學(xué)系統(tǒng)中，例如照相機、望遠鏡和傳統(tǒng)的紫外線光刻技術(shù)，光圈和透鏡等光學(xué)元件以軸對稱方式排列在一條直線上。這種方法并不適用于EUV射線，因為它們的波長極短，大多數(shù)會被材料吸收。因此，EUV光使用月牙形鏡子引導(dǎo)。但這又會導(dǎo)致光線偏離中心軸
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          • 關(guān)鍵字：
                        極紫外光刻  半導(dǎo)體制造  標準界限                          
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          標準界限介紹
          
      			
          
		      	
          
		      			      			      	您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條標準界限!
           
		      	歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對標準界限的理解，并與今后在此搜索標準界限的朋友們分享。    創(chuàng)建詞條
		      			      	
          
    		
          
  		
          
  		  		  		  		  		        		  		
          
    		
          
      			
          
        			
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