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電子源的未來方向：激光技術(shù)成重點(diǎn)
- 近日，美國(guó)能源部科學(xué)辦公室發(fā)布報(bào)告《電子源的未來》，指出了未來X射線自由電子激光(XFEL)、超快電子衍射(UED)和超快電子顯微鏡(UEM)的電子源需求和研發(fā)機(jī)遇。 下一代儀器的開發(fā)，從硬X射線自由電子激光到超快電子散射儀器，將強(qiáng)烈依賴于電子源的突破性進(jìn)展。2016年9月8日到9日，基礎(chǔ)能源科學(xué)(BES)辦公室在斯坦福直線加速器中心(SLAC)國(guó)家加速器實(shí)驗(yàn)室舉辦了未來電子源研討會(huì)，旨在確定未來XFEL、UED和UEM的電子源需求和未來的研發(fā)機(jī)遇，來自美國(guó)國(guó)家實(shí)驗(yàn)室、學(xué)術(shù)界和國(guó)際機(jī)構(gòu)的60多名
- 關(guān)鍵字： 電子源 激光
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