納米壓印文章進(jìn)入納米壓印技術(shù)社區(qū)

佳能押注納米壓印技術(shù) 挑戰(zhàn)光刻機(jī)老大ASML

日本佳能一直在投資納米壓?。∟ano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術(shù)，并宣布推出“FPA-1200NZ2C”納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備集群。計(jì)劃將新型芯片制造設(shè)備的價(jià)格定為阿斯麥極紫外光刻機(jī)的十分之一左右，從而在光刻機(jī)領(lǐng)域取得進(jìn)展。佳能首席執(zhí)行官御手洗富士夫（Fujio Mitarai）表示，基于NIL的新型芯片制造設(shè)備售價(jià)將比阿斯麥（ASML）的極紫外光刻（EUV）設(shè)備少一位數(shù)，雖然最終的定價(jià)目前還沒(méi)有敲定，但是可以預(yù)見(jiàn)將為小型芯片制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開(kāi)辟出一條新的道路。
關(guān)鍵字：佳能納米壓印光刻機(jī) ASML 半導(dǎo)體

佳能在 10 月 13 日宣布，正式推出納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備。對(duì)于 2004 年就開(kāi)始探索納米壓印技術(shù)的佳能來(lái)說(shuō)，新設(shè)備的推出無(wú)疑是向前邁出了一大步。佳能推出的這個(gè)設(shè)備型號(hào)是 FPA-1200NZ2C，目前可以實(shí)現(xiàn)最小線寬 14nm 的圖案化，相當(dāng)于生產(chǎn)目前最先進(jìn)的邏輯半導(dǎo)體所需的 5 納米節(jié)點(diǎn)。佳能表示當(dāng)天開(kāi)始接受訂單，目前已經(jīng)向東芝供貨。半導(dǎo)體行業(yè)可謂是「苦光刻機(jī)久已」，納米壓印設(shè)備的到來(lái)，讓期盼已久的半導(dǎo)體迎來(lái)一線曙光。那么什么是納米壓印技術(shù)？這種技術(shù)距離真的能夠取代光刻機(jī)嗎？納米壓印走向臺(tái)前想要
關(guān)鍵字：納米壓印 EUV 光刻機(jī)

佳能宣布推出FPA-1200NZ2C納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，該設(shè)備執(zhí)行電路圖案轉(zhuǎn)移。自日本佳能(Canon)官網(wǎng)獲悉，10月13日，佳能宣布推出FPA-1200NZ2C納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，該設(shè)備執(zhí)行電路圖案轉(zhuǎn)移，這是最重要的半導(dǎo)體制造工藝。（FPA-1200NZ2C 圖源:Canon)據(jù)悉，除了現(xiàn)有的光刻系統(tǒng)外，佳能還將采用納米壓印(NIL)技術(shù)的半導(dǎo)體制造設(shè)備推向市場(chǎng)，擴(kuò)大其半導(dǎo)體制造設(shè)備陣容，以滿(mǎn)足從最先進(jìn)的半導(dǎo)體設(shè)備到現(xiàn)有設(shè)備的廣泛需求。佳能官方介紹稱(chēng)，其N(xiāo)IL技術(shù)可實(shí)現(xiàn)最小線寬14
關(guān)鍵字：佳能納米壓印半導(dǎo)體制造

　　光譜，被視為物質(zhì)的“指紋”，是各類(lèi)物質(zhì)與生俱來(lái)的“身份證”，而光譜儀就像一雙分辨光波的“眼睛”，通過(guò)準(zhǔn)確測(cè)量物質(zhì)“指紋”，“一眼洞穿”其化學(xué)成分和物理特性?！　〗?，利用光譜原理，中國(guó)科學(xué)院深圳先進(jìn)技術(shù)研究院集成所副研究員林慧成功研發(fā)了一系列面向食品、藥品、照明檢測(cè)的超微型光譜儀，實(shí)現(xiàn)了光譜儀由大型科研儀器走向便攜應(yīng)用的轉(zhuǎn)化?！　×只蹐F(tuán)隊(duì)從古代活字印刷術(shù)中獲得靈感，發(fā)明了用于曲面的柔性納米壓印技術(shù)，改進(jìn)了關(guān)鍵器件，創(chuàng)新性地將光譜儀與合成生物學(xué)大設(shè)施、爬壁機(jī)器人等新領(lǐng)域結(jié)合，碰撞出全新應(yīng)用場(chǎng)景。　　集成
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