納米壓印光刻 文章 進入納米壓印光刻技術社區(qū)
納米壓印光刻是否是半導體制造的未來一步?
- 在半導體制造的高科技世界中,在納米尺度上創(chuàng)建復雜圖案的能力至關重要。隨著對更小、更快、更高效的電子設備的需求不斷增長,對先進光刻技術的需求也在增加。談到納米壓印光刻(NIL),這種方法承諾將詳細設計的圖案印在基板上。科技巨頭佳能最近推出了其NIL工具,但專家質疑它是否能真正挑戰(zhàn)極端紫外線(EUV)光刻術的主導地位。納米壓印光刻是如何工作NIL的核心是一個簡單的概念,盡管其執(zhí)行在技術上可能具有挑戰(zhàn)性。該過程涉及使用模具或模板在基板上物理“沖壓”出圖案。簡要過程如下:1. 創(chuàng)建一個具有納米級模式的模板。2.
- 關鍵字: 納米壓印光刻 半導體工藝制程
日本佳能推出納米壓印半導體制造設備
- 佳能于 10 月 13 日宣布,已將 FPA-1200NZ2C 商業(yè)化,這是一種納米壓印半導體制造系統(tǒng),利用納米壓印光刻(NIL)技術實現(xiàn)尖端半導體電路的形成,并于當天開始接受訂單。納米壓印半導體制造設備「FPA-1200NZ2C」傳統(tǒng)的投影曝光設備(例如 ArF 和 EUV)通過用穿過圖案掩模的光照射晶圓上的抗蝕劑來形成電路圖案,但使用 NIL 時,電路被印刷在掩模(模板)本身上。通過形成不規(guī)則形狀并將它們像郵票一樣壓在抗蝕劑上。通過從母版創(chuàng)建副本,可以多次使用掩碼,這具有降低設備成本的優(yōu)點。該公司的
- 關鍵字: 佳能 納米壓印光刻
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納米壓印光刻介紹
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