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          三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品,支持ASML下一代光刻機(jī)

          • 日前,日本三井化學(xué)宣布將在其巖國大竹工廠設(shè)立碳納米管 (CNT) 薄膜生產(chǎn)線,開始量產(chǎn)半導(dǎo)體最尖端光刻機(jī)的零部件產(chǎn)品(保護(hù)半導(dǎo)體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產(chǎn)品)。據(jù)悉,此種CNT薄膜可以實(shí)現(xiàn)92%以上的高EUV透射率和超過1kW曝光輸出功率的光阻能力。三井化學(xué)預(yù)期年產(chǎn)能力為5000張,生產(chǎn)線預(yù)計(jì)于2025年12月完工,可為ASML將推出的下一代高數(shù)值孔徑、高輸出EUV光刻機(jī)提供支持。
          • 關(guān)鍵字: 光刻機(jī)  納米管薄膜  ASML  
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          納米管薄膜介紹

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