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	計算光刻平臺
          

          
	
          
    	
          
    	  	
          
              	
                                
          
                  

                                
          
                    
          臺積電、新思科技將英偉達計算光刻平臺投入生產(chǎn)
          
                                                            
            
                    	
          • 當(dāng)?shù)貢r間3月18日，英偉達（NVIDIA）宣布臺積電（TSMC）、新思科技（Synopsys）已將其計算光刻平臺投入生產(chǎn)，以加速下一代先進半導(dǎo)體芯片的制造，突破物理極限。據(jù)悉，臺積電與新思科技已將英偉達cuLitho技術(shù)與其軟件、制造工業(yè)和系統(tǒng)集成，希望加快芯片制造速度，并幫助制造最新一代英偉達Blackwell架構(gòu)GPU。英偉達創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官黃仁勛表示，此次圍繞 cuLitho 展開合作，通過加速計算和生成式AI為半導(dǎo)體微縮開辟了新的方向。此外，英偉達還宣布推出可增強GPU加速計算光刻軟件庫 cuL
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          • 關(guān)鍵字：
                        英偉達  臺積電  新思科技  計算光刻平臺                          
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          計算光刻平臺介紹
          
      			
          
		      	
          
		      			      			      	您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條計算光刻平臺!
           
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