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248nm增透膜國際領(lǐng)先:準(zhǔn)分子激光器應(yīng)用擴(kuò)展
- 248nm準(zhǔn)分子激光器技術(shù)由于輸出波長短、能量高、具有窄的脈寬和很高的峰值功率,在工業(yè)、國防等方面,尤其是高功率激光系統(tǒng)包括248nm光刻技術(shù)、激光醫(yī)療、激光精細(xì)加工中具有極廣的應(yīng)用前景,也是ICF領(lǐng)域一個重要的技術(shù)選項。248nm薄膜元件是準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)中重要的薄膜元器件,其光學(xué)損耗和抗激光損傷性能對激光系統(tǒng)的效率起著重大或決定性的作用。 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所研究了LaF3、MgF2、Al2O3和SiO2薄膜的低吸收、低損耗蒸發(fā)沉積工藝,在此基礎(chǔ)上設(shè)計并制備了兩種248nm增透膜,
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