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          2015年DRAM產(chǎn)業(yè)仍將朝向穩(wěn)定獲利前進

          •   全球市場研究機構(gòu)TrendForce旗下內(nèi)存儲存事業(yè)處DRAMeXchange表示,雖然三星與SK海力士的新工廠仍將于2015年陸續(xù)完工,但明年度的投片計劃正仍在進行調(diào)整,如三星Line17工廠原本預(yù)定第二季大量投片的計劃已經(jīng)遞延,自明年第二季從每月10K開始增加,采隨市場狀況的漸進式增產(chǎn),此舉不光可以穩(wěn)定獲利結(jié)構(gòu),亦可隨時調(diào)整產(chǎn)品類別與比重,預(yù)計明年年末投片暫定為40K。但此同時隨著20nm制程的比重提升,該制程由于復(fù)雜度高,舊工廠在空間不足亦無法增添新設(shè)備下,投片會有減少的可能性,整體來看,三星即
          • 關(guān)鍵字: DRAM  25nm  

          爾必達25nm制程4Gbit內(nèi)存顆粒開發(fā)完成

          •   爾必達曾宣布采用25nm工藝制造的2Gbit內(nèi)存顆粒正式開始出貨。今日該公司正式發(fā)表公告稱,采用25nm新工藝制造的4Gbit DDR3 SDRAM顆粒研發(fā)完成,芯片面積在同類產(chǎn)品(4Gbit DRAM顆粒)中屬世界最小。  
          • 關(guān)鍵字: 爾必達  DDR3  25nm  

          爾必達開發(fā)出25nm制程2Gb DDR3內(nèi)存芯片

          •   日本爾必達公司宣布開發(fā)出25nm制程2Gb密度DDR3內(nèi)存芯片產(chǎn)品,這款產(chǎn)品可支持DDR3-1866規(guī)格,并兼容1.35V工作電壓條件下的DDR3L-1600工作模式。預(yù)計芯片樣品將于今年7月份開始向外出售,芯片的量產(chǎn)則也將在同一時期啟動。   
          • 關(guān)鍵字: 爾必達  25nm  

          傳Intel 25nm閃存固態(tài)硬盤延期至明年2月

          •   Intel與美光合資公司出品的25nm工藝NAND閃存在今年5月就已經(jīng)實現(xiàn)了量產(chǎn)。原本我們認為,Intel計劃中在今年四季度推出采用該閃存的第三代固態(tài)硬盤產(chǎn)品已經(jīng)足夠穩(wěn)健了。但根據(jù)歐洲媒體近日得到的消息,Intel近期又修改計劃,將該系列固態(tài)硬盤的發(fā)布時間推遲到了明年2月。根據(jù)之前泄露的路線圖,Intel 計劃在今年四季度推出代號Postville Refresh的第三代X25-M以及X25-V。憑借25nm工藝MLC NAND閃存的優(yōu)勢,實現(xiàn)容量翻倍,性能提升,更重要的是價格大幅下降。而到了明年一季
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          Intel鎂光生產(chǎn)出25nm 64Gb密度3位元NAND閃存芯片

          •   Intel與鎂光公司已經(jīng)成功生產(chǎn)出基于25nm制程技術(shù)的3位元型NAND閃存芯片產(chǎn)品,目前他們已經(jīng)將有關(guān)的產(chǎn)品樣品送往部分客戶手中進行評估,預(yù)計這款NAND閃存芯片將于今年年底前開始量產(chǎn)。這款25nm NAND閃存芯片的存儲密度為64Gb,為三位元型閃存。   這款閃存芯片是由Intel與鎂光合資的IM Flash公司研制,芯片采用了3位元(TLC)型設(shè)計,一個存儲單元可存儲3位數(shù)據(jù),比一般的單位元(SLC)/雙位元(MLC)閃存的存儲量更大。   這款產(chǎn)品的面積要比現(xiàn)有Intel與鎂光公司推
          • 關(guān)鍵字: Intel  25nm  NAND  

          英特爾與鎂光開始出樣25nm TLC閃存

          •   英特爾今天宣布和鎂光一起發(fā)布25nm TLC閃存的第一款樣品,TLC(Trinary-Level Cell;TLC),即3bit/cell,也就是1個內(nèi)存儲存單元可存放3位元。TLC速度慢,壽命短,但成本低,價格也較便宜,有2000-5000次擦寫壽命,非常適合U盤、SD卡和消費電子產(chǎn)品。新發(fā)布的芯片擁有8GB容量,芯片面積131平方毫米,比25納米制程MLC還小20%,以下是圖像:
          • 關(guān)鍵字: 英特爾  25nm  TLC  

          Intel鎂光宣布開始量產(chǎn)銷售25nm制程NAND閃存芯片

          •   繼今年二月份宣布成功試制出25nm制程NAND閃存芯片產(chǎn)品之后,Intel與鎂光的合資公司IMFT( Intel-Micron Flash Technologies)近日宣布開始正式對外銷售量產(chǎn)的25nm制程NAND閃存芯片,這種新制程的芯片產(chǎn)品容量將比34nm制程產(chǎn)品提升一倍。   這次采用25nm制程技術(shù)制作的NAND閃存芯片產(chǎn)品主要是8GB容量的芯片產(chǎn)品,這種8GB芯片的面積僅為167平方毫米,其容量可容納2000首歌曲,7000張照片或8小時時長的視頻片段。   目前還不清楚首款配置這
          • 關(guān)鍵字: Intel  25nm  NAND  

          Intel、美光25nm NAND閃存二季度開售

          •   Intel、美光合資公司Intel-Micron Flash Technologies(IMFT)宣布,25nm新工藝 NAND閃存芯片將從第二季度起開始銷售,預(yù)計今年晚些時候就可以看到相關(guān)U盤、記憶卡、固態(tài)硬盤等各種產(chǎn)品。   IMFT 25nm NAND閃存于今年初宣布投產(chǎn),這也是該領(lǐng)域的制造工藝首次進軍到30nm之下,并應(yīng)用了沉浸式光刻技術(shù)。新閃存內(nèi)核面積167平方毫米,每單位容量 2bit,總?cè)萘?GB,相比現(xiàn)有的34nm工藝閃存容量翻了一番,內(nèi)核面積卻小了十分之一。   Intel NA
          • 關(guān)鍵字: Intel  NAND  25nm  

          鎂光年中量產(chǎn)25nm NAND閃存 明年將轉(zhuǎn)向更高級別制程

          •   鎂光公司NAND閃存市場開發(fā)部門的經(jīng)理Kevin Kilbuck近日透露鎂光計劃明年將其NAND閃存芯片制程轉(zhuǎn)向25nm以下級別,他表示鎂光今年年中將開始批量生產(chǎn)25nm制程NAND閃存芯片,并將于明年轉(zhuǎn)向更高級別的制程。他并表示鎂光也計劃開發(fā)自己的電荷捕獲型(charge trap flash (CTF))閃存技術(shù),以取代現(xiàn)有的浮柵型( floating-gate)NAND閃存技術(shù)。   Killbuck還向Digitimes網(wǎng)站表示,鎂光的新款NAND閃存芯片將遵循新的EZ-NAND規(guī)范。目
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          Intel、美光宣布投產(chǎn)25nm NAND閃存

          •   由Intel、美光合資組建的IM Flash Technologies, LLC(IMFT)公司今天宣布,已經(jīng)開始使用25nm工藝晶體管試產(chǎn)MLC NAND閃存芯片,并相信足以領(lǐng)先其他競爭對手長達一年之久。IMFT公司在閃存工藝上一向非常激進,每12-15個月便升級一次:成立之初是72nm,2008年是50nm,去年則率先達到了34nm,在業(yè)內(nèi)領(lǐng)先六個月左右,也讓Intel提前搶先發(fā)布了34nm第二代X25-M固態(tài)硬盤,美光也即將推出RealSSD C300系列。IMFT生產(chǎn)的閃存芯片有49%供給In
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