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          臺(tái)積電積極布局28納米制程

          •   臺(tái)積電日前正在加快28納米以下制程布建腳步,位于中科園區(qū)的晶圓15廠第三暨第四期廠房,將同時(shí)興建,預(yù)計(jì)2013年完工,這二座新廠,未來(lái)將成為臺(tái)積電跨足20納米制程主要生產(chǎn)重心。   外資看好臺(tái)積電拉大先進(jìn)制程優(yōu)勢(shì),有助基本面持續(xù)增溫,近五個(gè)交易日買(mǎi)盤(pán)力道愈趨積極,買(mǎi)超張數(shù)已近11萬(wàn)張,成為多頭反攻的重要指標(biāo)。臺(tái)積電昨天收盤(pán)價(jià)76.3元,上漲0.3元,領(lǐng)先大盤(pán)站上除權(quán)后新高。   臺(tái)積電中科晶圓15廠第一期廠房,28納米制程已在最近投片,預(yù)計(jì)明年農(nóng)歷年過(guò)后正式量產(chǎn)芯片,新廠規(guī)劃產(chǎn)能5萬(wàn)片以上,中科也
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          28納米制程介紹

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