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850nm
850nm 文章 進(jìn)入850nm技術(shù)社區(qū)
晶電研發(fā)中心發(fā)表IR 850nm高效率發(fā)光產(chǎn)品
- 晶元光電研發(fā)中心(EPISTARLAB)技術(shù)團(tuán)隊(duì)積極投入研發(fā)，近日成功開發(fā)并導(dǎo)入許多前瞻性技術(shù)，如新穎性透明導(dǎo)電薄膜(TCO)材料、復(fù)合式反射鏡結(jié)構(gòu)、減少光線吸收之磊晶設(shè)計(jì)等。EPISTARLAB將相關(guān)技術(shù)導(dǎo)入后，有效地增加光子萃取效率，已大幅提升IR產(chǎn)品效能，創(chuàng)下多項(xiàng)新紀(jì)錄。 根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示(如附圖)，SFPN42芯片尺寸1x1mm2，實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中在操作電流40mA下，達(dá)最高光電轉(zhuǎn)換效率75%;操作電流350mA下WPE大于70%;1A操作電流下.發(fā)光強(qiáng)度更是超越了1W，達(dá)輸出功率1,0
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850nm介紹
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