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          Aviza與瑟思將重點(diǎn)集中于ALD膜層的晶圓背面和倒角處的去除解決方案

          •   2005年7月11日訊—經(jīng)過量產(chǎn)驗(yàn)證的熱處理系統(tǒng)以及原子膜層沉積(ALD)的全球供應(yīng)商Aviza Technology公司, 和半導(dǎo)體業(yè)界中單晶圓濕式處理技術(shù)的市場領(lǐng)先者及首要的技術(shù)創(chuàng)新者SEZ(瑟思)集團(tuán)于今日聯(lián)合宣布,將攜手應(yīng)對新一代IC制造過程中面臨的關(guān)于去除ALD膜層的一系列重要挑戰(zhàn)。協(xié)議約定,兩個(gè)公司將利用雙方的專家技術(shù),共同開發(fā)應(yīng)用于ALD高級膜層的沉積和去除等解決方案,合作重點(diǎn)將是晶圓的背面和倒角。   SEZ全球新興技術(shù)部總監(jiān)Leo Archer 博士評論說:“隨著半導(dǎo)體器件的日益復(fù)
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