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          巴斯夫拓展與IMEC為半導(dǎo)體行業(yè)開發(fā)工藝化學(xué)品

          •   巴斯夫與歐洲領(lǐng)先的獨(dú)立納米技術(shù)研究機(jī)構(gòu)比利時(shí)弗拉芒校際微電子研究中心(IMEC)今天宣布繼續(xù)拓展聯(lián)合研發(fā)項(xiàng)目。作為進(jìn)一步合作的領(lǐng)域之一,雙方計(jì)劃研發(fā)工藝化學(xué)品,這將提高半導(dǎo)體生產(chǎn)中的清洗化學(xué)品的性能。研究工作的另一個(gè)重點(diǎn)是降低生產(chǎn)工藝復(fù)雜性及減少生產(chǎn)步驟。   聯(lián)合研發(fā)下一階段將專注于選擇性清洗技術(shù),這一技術(shù)將推動以22納米技術(shù)為基礎(chǔ)的新一代芯片的開發(fā)。這些解決方案將用于集成電路生產(chǎn)的第一個(gè)部分,即“前段制程”(FEOL),此時(shí)個(gè)別組件(如晶體管)將被固定在半導(dǎo)體上。重要的是
          • 關(guān)鍵字: IMEC  22納米  FEOL  BEOL  
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          beol介紹

          BEOL就是制程的后道,形成Device的鏈接組合并引出PAD 對于beol(后線)的清洗,除了顆粒問題和金屬離子的問題,通常的問題是陰離子、多晶硅柵的完整性、接觸電阻、過孔的清潔程度、有機(jī)物以及在金屬布線中總的短路和開路的數(shù)量。 非hf-結(jié)尾的工藝。其它的類型是以hf去除工藝收尾的清洗。非hf-結(jié)尾的表面是親水性的,可以被烘干而不留任何水印,同時(shí)還會生成(在清洗過程中形 [ 查看詳細(xì) ]

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