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西門子推出Calibre 3DThermal軟件，持續(xù)布局3D IC市場
- ●? ?Calibre 3DThermal?可為?3D IC?提供完整的芯片和封裝內部熱分析，幫助應對從芯片設計和?3D?組裝的早期探索到項目?Signoff?過程中的設計與驗證挑戰(zhàn)●? ?新軟件集成了西門子先進的設計工具，能夠在整個設計流程中捕捉和分析熱數(shù)據(jù)西門子數(shù)字化工業(yè)軟件近日宣布推出?Calibre??3DThermal?軟件，可針對?3D?
- 關鍵字： 西門子 Calibre 3DThermal 3D IC
西門子推出Calibre DesignEnhancer，提供"設計即正確"的IC版圖優(yōu)化
- 西門子數(shù)字化工業(yè)軟件日前推出創(chuàng)新的 Calibre? DesignEnhancer 軟件，可以讓集成電路 (IC)、布局布線 (P&R) 和全定制設計團隊在 IC 設計和驗證過程的早期，進行自動化“Calibre 設計即正確”的版圖修改優(yōu)化，進而大幅地提高生產(chǎn)率、提升設計質量并縮短上市時間。Calibre DesignEnhancer 是西門子 Calibre? nmPlatform 物理驗證平臺一系列“左移”工具的最新成果，能夠賦能定制和數(shù)字設計團隊快速、準確地優(yōu)化其設計，以減少或消
- 關鍵字： 西門子 Calibre DesignEnhancer Calibre 設計即正確 版圖優(yōu)化
西門子 Calibre 平臺擴展早期設計驗證解決方案
- 西門子數(shù)字化工業(yè)軟件近日為其集成電路 (IC) 物理驗證平臺 —— Calibre? 擴展一系列電子設計自動化 (EDA) 早期設計驗證功能，可將物理和電路驗證任務“左移”， 在設計和驗證流程的早期階段即能識別、分析并解決復雜的 IC 和芯片級系統(tǒng) (SoC) 物理驗證問題，進而幫助 IC 設計團隊和公司加快流片速度。 在設計周期內更早地識別和解決問題，不僅有助于壓縮整個驗證周期，而且還能創(chuàng)造更多的時間和機會來提高最終的設計質量。西門子使用認證的簽核 (signoff) 標準，為早期階段的分析、驗證和優(yōu)化
- 關鍵字： 西門子 Calibre 設計驗證
可配置且簡單易用的組合式可靠性檢查
- 簡介雖然產(chǎn)品可靠性一直以來都是半導體行業(yè)的一個重要因素，但隨著交通運輸、醫(yī)療設備和 通信等領域越來越多地使用電子設備，對于能夠在設計的產(chǎn)品壽命期內按預期工作的集成 電路 (IC) 的需求已呈現(xiàn)出指數(shù)級增長趨勢。然而，盡管對于精準的可靠性驗證的需求已顯 著增長，但使用現(xiàn)有的驗證技術確保 IC 可靠性一直是 IC 設計公司面臨的重大挑戰(zhàn)之一。技 術節(jié)點尺寸的縮減加上不同類型的設計應用的快速增長，讓該問題變得更加復雜，增加了 需要的可靠性檢查數(shù)量及其復雜性。所有這些因素都在有力地推動對于準確的自動化芯片 可靠性
- 關鍵字： EDA Mentor Calibre
利用 Calibre nmLVS-Recon 技術加快上市速度：電路驗證新范式
- 背景1981 年是業(yè)界公認的電子設計自動化 (EDA) 商業(yè)化元年，Mentor, a Siemens business 自這一年開始，長期致力于深耕 EDA 工具領域。從一開始，我們的 Calibre? 驗證平臺就專注于為企業(yè)提供一流的驗證流程。 在與全球設計人員、工程師和團隊的日常互動中，我們一直在密切觀察設計和驗證周期，并不斷努力改 進我們的工具以提高生產(chǎn)率。有一個趨勢非常明顯……流片變得越來越困難，需要的時間也越來越長。根據(jù)行業(yè)會議調查得出的統(tǒng)計 數(shù)據(jù)，每年至少有 50% 的預定流片出現(xiàn)延遲。這些
- 關鍵字： EDA Mentor Calibre
機器學習如何賦能EDA
- 在20／22nm引入FinFET以后，先進工藝變得越來越復雜。在接下來的發(fā)展中，實現(xiàn)“每兩年將晶體管數(shù)量增加一倍，性能也提升一倍”變得越來越困難。摩爾定律的發(fā)展遇到了瓶頸，先進制程前進的腳步開始放緩。但是由于當今先進電子設備仍需求先進工藝的支持，因此，還有一些晶圓廠還在致力于推動先進制程的繼續(xù)發(fā)展。這些晶圓廠與EDA企業(yè)之間的合作，推動了先進制程的進步。從整體上看，當先進制程進入到14nm/7nm時代后，EDA工具的引入可以縮短研發(fā)周期，尤其是針對后端設計制造工具的更新，EDA起到了至關重要的作用。EDA
- 關鍵字： 機器學習 EDA Calibre
Mentor Graphics 推出針對 Tanner 模擬/混合信號 IC 設計環(huán)境的 Tanner Calibre One 驗證套件
- Mentor Graphics®公司(納斯達克代碼：MENT)今天宣布推出 Tanner Calibre One IC 驗證套件，作為 Tanner™ 模擬/混合信號 (AMS) 物理設計環(huán)境不可或缺的一部分，使 Tanner EDA 的用戶群可以輕松使用 Calibre® 驗證工具的所有功能。該套件大大改善了 IC 設計和驗證解決方案，使 Tanner 客戶可以在更為集成的環(huán)境中使用 Calibre 物理和電路驗證工具，尤其是在 Tanner L-Edit™
- 關鍵字： Mentor Graphics Calibre
全新Calibre xACT 產(chǎn)品可滿足先進工藝廣泛的寄生電路參數(shù)提取需求
- Mentor Graphics 公司今天宣布推出全新 Calibre® xACT™ 寄生電路參數(shù)提取平臺，該平臺可滿足包括 14nm FinFET 在內廣泛的模擬和數(shù)字電路參數(shù)提取需求，同時最大限度地減少 IC 設計工程師的猜測和設置功夫。 Calibre xACT 平臺可借由自動優(yōu)化電路參數(shù)提取技術，針對客戶特定的工藝節(jié)點、產(chǎn)品應用、設計尺寸大小及電路參數(shù)提取目標，實現(xiàn)精準度和周轉時間 (TAT) 的最佳組合。 采用 Calibre xACT 平臺進行電路寄生參數(shù)提取在滿足最嚴格
- 關鍵字： Mentor Graphics Calibre
Mentor對臺積電Reference Flow 10.0中的工具和技術進行擴展
- Mentor Graphics公司(Mentor Graphics Corporation)今日宣布，公司已對臺積電Reference Flow 10.0中的工具和技術進行擴展。擴展的Mentor?流程支持復雜的集成電路高級功能驗證、28nm 集成電路 netlist-to-GDSII實現(xiàn)、與無處不在的Calibre?物理驗證和DFM平臺更加緊密的集成和版圖感知測試故障診斷工具。此外，新推出的Mentor流程還以Mentor工具解決功能驗證、集成電路實現(xiàn)和集成電路測試中的低功耗設計問題
- 關鍵字： Mentor Reference Flow Calibre Olympus-SoC TestKompress YieldAssist
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