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2010決勝年 ASML 主攻38納米、EUV設(shè)備
- 全球最大半導(dǎo)體微顯影設(shè)備業(yè)者ASML表示，目前客戶訂單增加相當(dāng)多，但主是來自半導(dǎo)體業(yè)者制程微縮而非產(chǎn)能擴(kuò)充的需求，半導(dǎo)體業(yè)者仍持續(xù)微縮半導(dǎo)體制程，摩爾定律預(yù)料將持續(xù)延續(xù)。以目前ASML最先進(jìn)的浸潤式微顯影機(jī)種來看，新一代的機(jī)種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨，未來將快速增加出貨，同時(shí)深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶訂單，對ASML來說2010年將是極重要的一年。 ASML NXT技術(shù)平臺(tái)資深經(jīng)理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代機(jī)種NXT 1950i
- 關(guān)鍵字： ASML 38納米 EUV設(shè)備
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