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利用更高效的 LVS 調(diào)試提高生產(chǎn)率
- 簡(jiǎn)介版圖與電路圖比較 (LVS) 驗(yàn)證是片上系統(tǒng) (SOC) 設(shè)計(jì)周期中集成電路 (IC) 驗(yàn)證必不可少的組 成部分,但鑒于當(dāng)今高密度且層次化的版圖、不斷提高的電路復(fù)雜性以及錯(cuò)綜復(fù)雜的晶圓 代工廠規(guī)則,運(yùn)行 LVS 可能是一項(xiàng)耗時(shí)且資源密集的工作。全芯片 LVS 運(yùn)行不僅會(huì)將設(shè)計(jì)版 圖與電路圖網(wǎng)表進(jìn)行比較,而且通常還包含會(huì)增加 LVS 運(yùn)行時(shí)間的其他驗(yàn)證,例如電氣規(guī)則 檢查 (ERC) 和短路隔離。根據(jù)設(shè)計(jì)的復(fù)雜性,調(diào)試這些設(shè)計(jì)的 LVS 結(jié)果可能同樣具挑戰(zhàn)性且耗時(shí),進(jìn)而影響總周轉(zhuǎn)時(shí) 間 (TAT) 和計(jì)
- 關(guān)鍵字: LVS SOC IC設(shè)計(jì) Mentor
Cadence與聯(lián)電攜手完成28納米HPC+制程先進(jìn)射頻毫米波設(shè)計(jì)流程認(rèn)證
- 聯(lián)華電子近日宣布Cadence?毫米波(mmWave)參考流程已獲得聯(lián)華電子28奈米HPC+制程的認(rèn)證。透過(guò)此認(rèn)證,Cadence和聯(lián)電的共同客戶(hù)可利用整合的射頻設(shè)計(jì)流程,加速產(chǎn)品上市時(shí)程。此完整的參考流程是基于聯(lián)電的晶圓設(shè)計(jì)套件(FDK)所設(shè)計(jì)的,其中包括具有高度自動(dòng)化的電路設(shè)計(jì)、布局、簽核和驗(yàn)證流程的一個(gè)實(shí)際示范電路,讓客戶(hù)可在28奈米的HPC+制程上實(shí)現(xiàn)更無(wú)縫的芯片設(shè)計(jì)。經(jīng)認(rèn)證的毫米波參考流程,支持Cadence的智慧系統(tǒng)設(shè)計(jì)?策略,使客戶(hù)加速SoC設(shè)計(jì)的卓越性。高頻射頻毫米波設(shè)計(jì)除了需要模擬和混合
- 關(guān)鍵字: EM DRC LVS PVS
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