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          采用創(chuàng)新思維,Cadence新工具讓45nm IC量產提速!

          •   45nm節(jié)點被稱為IC設計的分水嶺,因為在這一節(jié)點,不僅半導體材料特性、光刻技術已經接近極限,而且EDA工具也要面臨更高層次抽象、創(chuàng)新平臺、DFM、多電源域等諸多新挑戰(zhàn),針對這一節(jié)點上的EDA工具開發(fā)需要更多創(chuàng)新的思維和策略。因為挑戰(zhàn)很多,所以業(yè)界人士對45nm的芯片設計和制造未來憂心忡忡。不過,欣喜的是,在9月11日硅谷的CDNLive!用戶會議上,Cadence向領先的半導體設計者和經理們展示了自己的45nm設計流程。其對應的產品Cadence Encounter數字設計平臺因采用了創(chuàng)新的思維和策
          • 關鍵字: 創(chuàng)新思維  Cadence  45nm  IC量產  MCU和嵌入式微處理器  
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          ic量產介紹

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