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          DRAM產(chǎn)業(yè)走向低納米技術(shù) 成本縮減將放速

          •   最近幾個(gè)季度DRAM產(chǎn)業(yè)在推低光刻節(jié)點(diǎn)方面比較積極,但在今年剩余時(shí)間內(nèi)力度將逐漸減弱。今年第一季度DRAM產(chǎn)業(yè)的加權(quán)平均節(jié)點(diǎn)從2010年第四季度的5.3%上升到5.6%,表明推動(dòng)DRAM技術(shù)遷移的力度在增大。。在此期間,成本降幅從7.8%增大至14.2%,晶圓成本下降情況與光刻工藝的變化相符。據(jù)IHS iSuppli公司的研究,隨著DRAM市場(chǎng)過(guò)渡到效率更高的低納米技術(shù),該產(chǎn)業(yè)的成本削減及節(jié)省步伐從2012年開(kāi)始將放緩。
          • 關(guān)鍵字: Inotera  DRAM  

          分析師看好全球生產(chǎn)線的擴(kuò)張版圖

          •   按SEMI的資深分析師Christian Dieseldorff報(bào)道,SEMI的全球Fab預(yù)測(cè)于2010年時(shí)全球Fab投資再增加64%,達(dá)240億美元。   ICInsight的McClean認(rèn)為,今年第三季度的全球產(chǎn)能利用率可達(dá)88%,接近去年金融危機(jī)之前的水平。它還認(rèn)為2007年的產(chǎn)能利用率達(dá)90%,一直維持到去年的前三個(gè)季度。之后2008 Q4下降到68%,2009 Q1為最低水平是57%,到09 Q2由于OEM為補(bǔ)充庫(kù)存而使產(chǎn)能利用率又回復(fù)到78%。      
          • 關(guān)鍵字: Inotera  70納米  溝槽式  DRAM  

          臺(tái)灣內(nèi)存芯片廠商紛紛提升制程并欲提高產(chǎn)能

          •   由于第三季度內(nèi)存芯片價(jià)格看漲,因此臺(tái)灣內(nèi)存芯片廠商華亞(Inotera),南亞(Naya)以及力晶半導(dǎo)體(PSC)公司最近紛紛進(jìn)行制程轉(zhuǎn)換并計(jì)劃提高產(chǎn)能。此前,由于PC和ASP市場(chǎng)需求萎靡,因此這些芯片廠商曾一度減產(chǎn)自保。   力晶公司將員工的月無(wú)薪休假日數(shù)由8天減到了4天,而華亞和南亞則計(jì)劃六月份開(kāi)始禁止大部分員工無(wú)薪休假。   華亞稱由于奇夢(mèng)達(dá)的破產(chǎn)其出貨量有所下降,不過(guò)自從與鎂光達(dá)成供貨協(xié)議后出貨開(kāi)始恢復(fù)。該公司預(yù)計(jì)五月份產(chǎn)量為8萬(wàn)片12英寸晶圓,而到第三季度,月產(chǎn)量將達(dá)9-10萬(wàn)片。相比第
          • 關(guān)鍵字: Inotera  晶圓  內(nèi)存芯片  
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