- 早期采用TiO2膜或MgF2/ZnS混合膜以增加對入射光的吸收，但該方法均需先單獨采用熱氧化方法生長一層10～20umSiO2使硅片表面非晶化、且對多晶效果不理想。SixNy膜層不僅減緩漿料中玻璃體對
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晶體硅 絲網印刷 HF-PECVD
- 市場需求催生創(chuàng)新動力，八零后的許子寒直接退學創(chuàng)業(yè)石墨烯，或許正緣于此。
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石墨烯 PECVD
- 以評估高深寬比TSV 應用的金屬化制程
濕式納米薄膜沉積工藝能夠以低持有成本提供20:1深寬比TSV
3D 整合正朝著中段鉆孔(via middle approach)的做法發(fā)展，即在前端工藝之后，但卻在堆疊之前形成TSV。一些應用正處于研發(fā)階段，導致TSV技術的限制和不同規(guī)格。 Alchimer 的技術顯示出突破現有障礙，實現高深寬比TSV 的潛力。此次協(xié)作將評估其技術的潛力及其大批量生產的適用性。
Alchimer 的執(zhí)行長Bruno Morel 表示：「目前的技術，例如PECV
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Alchimer PECVD
- 應用材料公司宣布推出全新等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)薄膜技術，用于制造適用于下一代平板電腦和電視的更高性能高分辨率顯示。這些源自應用材料公司業(yè)界領先的AKT-PECVD系統(tǒng)的先進絕緣薄膜，使得基于金屬氧化物的晶體管的應用成為可能，制造出尺寸更小、開關速度更快的像素，從而幫助客戶推出更受消費者歡迎的高分辨率顯示屏。
應用材料公司的全新PECVD設備沉積絕緣介電薄膜，為金屬氧化物晶體管提供了一個良好的層間界面，從而最大限度地減少了氫雜質，提高了晶體管的穩(wěn)定性，實現了顯示屏的優(yōu)化性能。這些高
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應用材料 PECVD
- 為了應對市場變化，北方微電子在集成電路設備研發(fā)的基礎上加大了太陽能電池領域高端設備的研發(fā)投入，開發(fā)出集成電路12英寸65納米硅刻蝕機、晶硅太陽能電池PECVD設備和薄膜太陽能電池PVD設備，三種高端設備將在本次展會上同時亮相。
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北方微電子 集成電路 PECVD
- 光伏發(fā)電將成為未來電網的支柱和方向。隨著我國《可再生能源法》的頒布實施，以及近兩年我國光伏產業(yè)規(guī)模的迅速擴大，生產設備銷量也大幅增長。2006年國產光伏電池設備銷售額達到6億元，比2005年增長76.6%。預計2007年國產光伏電池設備銷售額將超過7億元。
各類國產設備與國際差距不一
PECVD產能及工藝水平已接近世界先進水平，得到越來越多國內用戶的使用，但設備自動化程度(自動裝卸片)與國外尚有差距。
全自動絲網印刷機在核心技術上無法取得突破，整體水平和國外差距較大，國內生產線幾乎全部采用了價
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模擬技術 電源技術 光伏發(fā)電 再生能源 PECVD 電源
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