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TSMC推出先進工藝之互通式電子設計自動化格式
- TSMC7日宣布針對65納米、40納米及28納米工藝推出已統(tǒng)合且可交互操作的多項電子設計自動化(Electronic Design Automation; EDA) 技術檔案。這些與設計相關的技術檔案套裝包括可互通的工藝設計套件(iPDK)、工藝設計規(guī)則檢查(iDRC)、集成電路布局與電路圖對比 (iLVS),及工藝電容電阻抽取模組 (iRCX)。 iPDK、iDRC、iLVS,及iRCX技術系由TSMC與EDA合作伙伴一同在半導體產(chǎn)業(yè)的互通項目下通過驗證,也是TSMC「開放創(chuàng)新平臺」之一部份。
- 關鍵字: 臺積電 EDA 65納米 40納米 28納米
SpringSoft協(xié)助客戶補齊技術短板
- 作為一家EDA軟件供應商,SpringSoft與同行之間的最大不同在于,它并不提供完整的解決方案,而是專注于IC設計中的定制化IC設計和驗證增強兩方面。 “業(yè)界已有很多的公司為客戶提供全方位的服務,但是客戶往往在研發(fā)中會遭遇技術短板,這就需要在這些領域有特長的公司來提供特制的產(chǎn)品以滿足客戶需求。SpringSoft恰恰瞄準的是這一塊市場。”SpringSoft常務副總裁兼首席運營官鄧強生說,“SpringSoft提供的Novas驗證增強解決方案和Laker定制
- 關鍵字: SpringSoft IC設計 EDA
基于EDA技術的自動門控制系統(tǒng)設計
- 引 言 門和人類文明是孿生的,它伴隨著人類文明的發(fā)展而躍動。21 世紀的今天,門更加突出了安全理念,強調了有效性:有效地防范、通行、疏散,同時還突出了建筑藝術的理念,強調門與建筑以及周圍環(huán)境整體的協(xié)調、
- 關鍵字: EDA 自動門 控制系統(tǒng)設計
半導體、EDA業(yè)者合作模式轉變
- 過去在EDA業(yè)者如雨后春筍,頭角崢嶸之前,不乏大型芯片廠自行開發(fā)EDA工具,然為取得最新設計驗證工具,超微(AMD)等公司近年除持續(xù)內部研發(fā)外,也與EDA公司合作。半導體產(chǎn)業(yè)鏈上下游惟有攜手合作,方能走出2008、2009年景氣陰霾。 經(jīng)濟衰退時,公司為能在景氣回溫時即時反應,即便縮減各項開支,開發(fā)腳步卻不曾停歇。明導(Mentor)執(zhí)行長Wally Rhines表示,景氣不佳半導體廠商會較仰賴商務電子設計自動化(EDA)解決方案。 然業(yè)者過去多著重在EDA工具,經(jīng)濟衰退后半導體業(yè)者的心態(tài)
- 關鍵字: AMD EDA 晶圓
芯片代工業(yè)格局劇變:三星展露代工野望
- 過去,芯片代工業(yè)的四巨頭是:特許公司,IBM公司,臺積電公司和聯(lián)電公司,除了這些廠家之外,大陸的中芯國際也是一家很有實力的代工廠商。不過現(xiàn) 在,芯片代工業(yè)的局勢已經(jīng)發(fā)生了變化。 眼下臺積電仍然站在老大位置上,不過他們最近遭遇了40nm制程良率事件,而且才剛剛從這起事件的陰影中走出來。IBM則仍然是高端代工市場的No1,不過這家廠商的產(chǎn)品數(shù)量相對較少,屬于“陽春白雪級”的代工商。而聯(lián)電則似乎已經(jīng)跌出了第一技術方陣,其大客戶之一信立公司甚至已經(jīng)與臺積電“私奔&rd
- 關鍵字: 三星 EDA
IC產(chǎn)業(yè)高層:現(xiàn)實殘酷 委外代工勢在必行
- 在美國加州舉行的DesignCon 2010研討會的一場座談上,產(chǎn)業(yè)界代表針對IC委外生產(chǎn)模式的演進與影響各抒己見,所達成的共識是,半導體廠商將芯片外包設計、封測與制造,甚至是將部份業(yè)務營運委外,都是為了要降低成本并把資源集中在專長上,不得已采取的策略。 但委外代工(outsourcing)也意味著產(chǎn)業(yè)價值鏈──包括工作機會──的外移;這些產(chǎn)業(yè)界代表在被問到業(yè)務外包對美國失業(yè)率的影響、以及當?shù)匕雽w產(chǎn)業(yè)持續(xù)被空洞化的問題時,有位廠商高層給了一個頗具震撼力卻很誠實的答案:“人生是殘酷的
- 關鍵字: EDA 晶圓代工 IC設計
芯片高速仿真的創(chuàng)新
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- 目前IC設計中,軟件工作量越來越大(圖1),在65nm設計成本統(tǒng)計中,軟件已占50%,驗證占30%,其他還有樣機、確認(Validation)、物理、架構。隨著工藝節(jié)點向45nm、32nm、22nm發(fā)展,軟件的比例將超過50%,同時驗證工作量將維持30%左右。可見,由于軟件的增長將使軟硬件協(xié)同仿真成為一個重要環(huán)節(jié)。當前,CPU、圖形、無線、DTV/STB、數(shù)碼相機/攝像機、多功能打印機等芯片需要軟硬件協(xié)同仿真。 在Gary Smith EDA公司《2009年RTL市場趨勢分析報告》中指出,E
- 關鍵字: IC設計 EDA 65nm 201001
IC測試的創(chuàng)新
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- EDA工具加速IC測試 隨著IC制程節(jié)點從90nm向65nm和45nm延伸,需要測試的數(shù)據(jù)量會激增,相應地會帶來測試成本的提高(圖1)。例如,從90nm到65nm時,由于增加了門數(shù),傳統(tǒng)的測試量急劇增加;同時,在速(at-speed)測試也成倍增加,這是由于時序和信號完整性的敏感需求;到了45nm時代,在前兩者的基礎上,又增加了探測新缺陷的測試。 為了提高測試效率,對測試數(shù)據(jù)的壓縮持續(xù)增長。據(jù)ITRS(國際半導體技術發(fā)展路線圖)預測(圖2),2010年的壓縮需求比2009年翻番。
- 關鍵字: EDA IC測試 65nm 45nm 201001
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