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常見硬件設(shè)計(jì)EDA工具之比較
- 項(xiàng)目中EDA工具是每個(gè)工程師必不可少的好幫手，大大加快了我們的設(shè)計(jì)進(jìn)程。每一位工程師都應(yīng)該掌握并熟練至少一種EDA工具的使用。在論壇里經(jīng)常能看到新手的經(jīng)典提問：我應(yīng)該學(xué)習(xí)哪種畫圖工具呀?哪種畫圖工具更強(qiáng)大?哪種畫圖工具更好用?網(wǎng)上關(guān)于各種工具功能介紹的資料多如牛毛，EDA工具本身又包含很多版本和獨(dú)立功能的工具，初學(xué)者難免無所適從。
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Mentor與寧波諾丁漢大學(xué)建立集成電路聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室
- Mentor Graphics Corp.日前宣布啟動(dòng)與寧波諾丁漢大學(xué)的聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室。按照雙方的協(xié)議，Mentor Graphics捐贈(zèng)了超過1千萬美元的EDA軟件和技術(shù)支持，讓UNNC的學(xué)生能夠?qū)ψ钕冗M(jìn)的設(shè)計(jì)方法有深入的了解。
- 關(guān)鍵字： Mentor 諾丁漢 IC設(shè)計(jì)
EDAC：全球EDA產(chǎn)業(yè)2012年實(shí)現(xiàn)正增長
- 日前，EDAC(EDA Consortium )發(fā)布了最新的市場研究報(bào)告，報(bào)告稱全球EDA產(chǎn)業(yè)除日本外都實(shí)現(xiàn)了正增長。 全球的EDA及服務(wù)三季度總收入達(dá)到16.2億美元，同比增長4.9%。 “EDA產(chǎn)業(yè)恢復(fù)了往年的正增長態(tài)勢，亞太區(qū)成為全行業(yè)增長最快到區(qū)域?！盓DAC董事會(huì)發(fā)言人及Mentor CEO Walden Rhines表示。 伴隨著EDA相關(guān)企業(yè)的業(yè)績上升，相應(yīng)的雇員人數(shù)也隨之增加，根據(jù)EDAC的調(diào)查，EDA產(chǎn)業(yè)現(xiàn)有雇員達(dá)28877人，同比增長6.3
- 關(guān)鍵字： Mentor EDA
明導(dǎo)支持三星14nm IC制造工藝平臺(tái)問世
- 明導(dǎo)公司(Mentor Graphics Corp)今天宣布，用以支持三星14nm IC制造工藝的綜合設(shè)計(jì)、制造與后流片實(shí)現(xiàn)(post tapeout)平臺(tái)問世，這一平臺(tái)能夠?yàn)榭蛻籼峁┩暾膹脑O(shè)計(jì)到晶圓的并行流程，使早期加工成為可能。完全可互操作的Mentor?流程可幫助客戶實(shí)現(xiàn)快速設(shè)計(jì)周期和晶圓生產(chǎn)的一次性成功。 明導(dǎo)專門用于三星14nm晶圓優(yōu)化的解決方案，包含設(shè)計(jì)規(guī)則檢查(DRC)、LVS查驗(yàn)、提取、可制造性設(shè)計(jì)(DFM)和先進(jìn)填充等功能的Calibre?平臺(tái)，以及Tessent?可測試性設(shè)
- 關(guān)鍵字： Mentor IC 14nm
協(xié)同設(shè)計(jì)，未來硬件設(shè)計(jì)工作的方向
- Mentor Graphics PCB Technology Forum 2012 China北京站活動(dòng)在前不久舉行。此次活動(dòng)探討了PCB設(shè)計(jì)在產(chǎn)品研發(fā)過程中的重要性、PCB設(shè)計(jì)中的IP管理、高速設(shè)計(jì)解決方案以及Mentor Graphics的協(xié)作型PCB設(shè)計(jì)方案等主題。 目前，對(duì)于PCB設(shè)計(jì)工作的最大挑戰(zhàn)是：隨著產(chǎn)品功能和性能等方面的不斷提升，PCB板的布線規(guī)模也越來越大，越來越復(fù)雜，需要考慮的因素也越來越多，提高PCB設(shè)計(jì)時(shí)的工作效率，成了最大的關(guān)鍵挑戰(zhàn)。 在過去，PCB板的復(fù)雜度并沒
- 關(guān)鍵字： Mentor Graphics PCB 并行設(shè)計(jì)
“突破電子制造困境 就在今天”技術(shù)研討會(huì)圓滿結(jié)束
- 明導(dǎo)國際(Mentor Graphics)下屬Valor事業(yè)部日前在深圳皇冠威尼斯假日酒店舉辦了主題為“突破電子制造困境 就在今天”的技術(shù)研討會(huì)。
- 關(guān)鍵字： Mentor Graphics EDA DFM MES
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