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Si2和SEMI宣布聯(lián)手改良集成電路可制造性設(shè)計

2005年4月15日，德州奧斯汀，加州圣何塞——Silicon Integration Initiative（Si2）和SEMI于今日宣布一項合作協(xié)議，旨在應(yīng)對日益復(fù)雜的集成電路可制造性設(shè)計以及不斷增長的成本問題。半導(dǎo)體的設(shè)計制造日趨復(fù)雜，因此亟須設(shè)計商、制造商和技術(shù)供應(yīng)商通力合作，以共同應(yīng)對這一難題。SEMI成員已充分意識到這一需要，并對可制造性設(shè)計（DFM）這一領(lǐng)域頗感興趣。而Si2成員同樣在尋求更加深入地了解制造流程，以期開發(fā)出全新的工具和技術(shù)用于創(chuàng)造更為穩(wěn)健的設(shè)計方案，
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Silicon Integration Initiative（Si2）和SEMI于今日宣布一項合作協(xié)議，旨在應(yīng)對日益復(fù)雜的集成電路可制造性設(shè)計以及不斷增長的成本問題。半導(dǎo)體的設(shè)計制造日趨復(fù)雜，因此亟須設(shè)計商、制造商和技術(shù)供應(yīng)商通力合作，以共同應(yīng)對這一難題。SEMI成員已充分意識到這一需要，并對可制造性設(shè)計（DFM）這一領(lǐng)域頗感興趣。而Si2成員同樣在尋求更加深入地了解制造流程，以期開發(fā)出全新的工具和技術(shù)用于創(chuàng)造更為穩(wěn)健的設(shè)計方案，并在制造流程早期實現(xiàn)更高收益。SEMI總裁兼首席執(zhí)行官麥雅斯說
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SEMI和IEEE簽署了一項關(guān)于合作項目的諒解備忘錄，該項目旨在創(chuàng)建納米技術(shù)和微電子機械系統(tǒng)（MEMS）標(biāo)準(zhǔn)。此協(xié)議的簽訂標(biāo)志著協(xié)議雙方的首度標(biāo)準(zhǔn)協(xié)調(diào)合作。根據(jù)該理解備忘錄，SEMI和IEEE將確定有關(guān)聯(lián)絡(luò)事宜，說明定期的信息交流計劃并安排定期召開聯(lián)合會議。備忘錄中還提供各自委員會會議的最新資料并發(fā)布關(guān)于納米技術(shù)和微電子機械系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)信息。 IEEE標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會正在積極推進其納米技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，并預(yù)計在2005年出臺碳納米管的測量標(biāo)準(zhǔn)。同樣，SEMI的MEMS動議也顯示了對這一標(biāo)準(zhǔn)的關(guān)注?！霸搨渫泴{米技術(shù)、ME
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兩大電子產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)組織SEMI與IEEE日前(6/7) 簽署了一份備忘錄（Memorandum of Understanding：MOU），未來將針對奈米技術(shù)及微電機系統(tǒng)（MEMS）領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)進行合作。依此備忘錄，兩團體分別任命了聯(lián)系人，并且將就上述兩個領(lǐng)域定期交流資訊，并將定期舉行聯(lián)席會議
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