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          EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 仿真

          是德科技推出System Designer和Chiplet PHY Designer,優(yōu)化基于數(shù)字標(biāo)準(zhǔn)的仿真工作流程

          • ●? ?借助由仿真驅(qū)動(dòng)的虛擬合規(guī)性測(cè)試解決方案,采用更智能、更精簡(jiǎn)的工作流程,提高?PCIe?設(shè)計(jì)的工作效率●? ?具有設(shè)計(jì)探索和報(bào)告生成能力,可加快小芯片的信號(hào)完整性分析以及?UCIe?合規(guī)性驗(yàn)證,從而幫助設(shè)計(jì)師提高工作效率,縮短新產(chǎn)品上市時(shí)間System Designer for PCIe?是一種智能的設(shè)計(jì)環(huán)境,用于對(duì)最新PCIe Gen5?和?Gen6?系統(tǒng)進(jìn)行建模和仿真是德科技(
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          COMSOL 如何通過(guò)仿真設(shè)計(jì)出更安全的電池

          • 設(shè)想一個(gè)場(chǎng)景:一個(gè)電池組連接到充電器上正在充電。第 1 分鐘,一切正常,電能正常流入電池組。突然,一個(gè)電池單元發(fā)生短路并迅速升溫,進(jìn)而引發(fā)連鎖反應(yīng),電池組中的其他電池紛紛效仿。20 分鐘后,整個(gè)電池組已經(jīng)完全損壞。為了研究這種存在安全隱患的情況,我們模擬了一個(gè)經(jīng)歷這種快速變化過(guò)程的電池組。電池出問(wèn)題的風(fēng)險(xiǎn)當(dāng)電池超出其正常工作范圍、受損或發(fā)生短路時(shí),就會(huì)像上述極端一樣經(jīng)歷熱失控。在這個(gè)過(guò)程中,一個(gè)電池單元會(huì)不受控制地升溫,并引發(fā)鄰近電池效仿。當(dāng)過(guò)多的熱量產(chǎn)生卻沒(méi)有足夠的散熱來(lái)抵消時(shí),整塊電池就會(huì)出現(xiàn)熱失控。
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          CMOS逆變器短路功耗的仿真

          • 在邏輯電平轉(zhuǎn)換期間,電流短暫地流過(guò)兩個(gè)晶體管。本文探討了由此產(chǎn)生的功耗,并為測(cè)量電流和功率提供了一些有用的LTspice技巧。在本系列的第一篇文章中,我們研究了CMOS反相器的動(dòng)態(tài)和靜態(tài)功耗。在隨后的文章中,我們使用LTspice模擬來(lái)進(jìn)一步了解電容充電和放電引起的功耗。作為討論的一部分,我們創(chuàng)建了如圖1所示的LTspice反相器電路。增加了負(fù)載電阻和電容的CMOS反相器的LTspice示意圖。 圖1。具有負(fù)載電阻和電容的CMOS反相器的LTspice示意圖。我們將在本文中繼續(xù)使用上述原理圖,研
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          PCB設(shè)計(jì)不好造成的信號(hào)完整性問(wèn)題

          • 信號(hào)完整性的定義 定義:信號(hào)完整性(Signal Integrity,簡(jiǎn)稱SI)是指在信號(hào)線上的信號(hào)質(zhì)量。差的信號(hào)完整性不是由某一單一因素導(dǎo)致的,而是板級(jí)設(shè)計(jì)中多種因素共同 引起的。當(dāng)電路中信號(hào)能以要求的時(shí)序、持續(xù)時(shí)間和電壓幅度到達(dá)接收端時(shí),該電路就有很好的信號(hào)完整性。當(dāng)信號(hào)不能正常響應(yīng)時(shí),就出現(xiàn)了信號(hào)完整性問(wèn)題。信號(hào)完整性包含:1、波形完整性(Waveform integrity)2、時(shí)序完整性(Timing integrity)3、電源完整性(Power integrity)信號(hào)完整性分析的目的就是用
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          CMOS反相器開關(guān)功耗的仿真

          • 當(dāng)CMOS反相器切換邏輯狀態(tài)時(shí),由于其充電和放電電流而消耗功率。了解如何在LTspice中模擬這些電流。本系列的第一篇文章解釋了CMOS反相器中兩大類功耗:動(dòng)態(tài),當(dāng)反相器從一種邏輯狀態(tài)變?yōu)榱硪环N時(shí)發(fā)生。靜態(tài),由穩(wěn)態(tài)運(yùn)行期間流動(dòng)的泄漏電流引起。我們不再進(jìn)一步討論靜態(tài)功耗。相反,本文和下一篇文章將介紹SPICE仿真,以幫助您更徹底地了解逆變器的不同類型的動(dòng)態(tài)功耗。本文關(guān)注的是開關(guān)功率——當(dāng)輸出電壓變化時(shí),由于電容充電和放電而消耗的功率。LTspice逆變器的實(shí)現(xiàn)圖1顯示了我們將要使用的基本LTspice逆變器
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          PCB哪些因素影響損耗

          • 我們經(jīng)常討論P(yáng)CB中損耗大小的問(wèn)題。有的工程師就會(huì)問(wèn),哪些因?yàn)闀?huì)影響損耗的大小呢?其實(shí),最常見的答案通常會(huì)說(shuō)PCB材料的損耗因子、PCB傳輸線的長(zhǎng)度、銅箔粗糙度,其實(shí)答案肯定遠(yuǎn)不至于此。下面我們分別就相應(yīng)參數(shù)做一些實(shí)驗(yàn)給大家介紹下PCB板中哪些因素對(duì)傳輸線損耗有影響。首先看看介質(zhì)損耗因子Df對(duì)損耗的影響,以Df為變量,分析Df的變化對(duì)損耗的影響,下圖是分析的原理圖:仿真對(duì)比結(jié)果如下,顯然,隨著PCB介質(zhì)損耗因子的變大,損耗越來(lái)越大:長(zhǎng)度也是損耗的主要因素之一,把傳輸線長(zhǎng)度設(shè)定為L(zhǎng)en變量,分析Len的變化
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          DDR4的PCB設(shè)計(jì)及仿真

          • 相對(duì)于DDR3, DDR4首先在外表上就有一些變化,比如DDR4將內(nèi)存下部設(shè)計(jì)為中間稍微突出,邊緣變矮的形狀,在中央的高點(diǎn)和兩端的低點(diǎn)以平滑曲線過(guò)渡,這樣的設(shè)計(jì)可以保證金手指和內(nèi)存插槽有足夠的接觸面從而確保內(nèi)存穩(wěn)定,另外,DDR4內(nèi)存的金手指設(shè)計(jì)也有明顯變化,金手指中間的防呆缺口也比DDR3更加靠近中央。當(dāng)然,DDR4最重要的使命還是提高頻率和帶寬,總體來(lái)說(shuō),DDR4具有更高的性能,更好的穩(wěn)定性和更低的功耗,那么從SI的角度出發(fā),主要有下面幾點(diǎn), 下面章節(jié)對(duì)主要的幾個(gè)不同點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明。表1 DDR3和DDR
          • 關(guān)鍵字: DDR4  PCB設(shè)計(jì)  仿真  

          SiC仿真攻略手冊(cè)——詳解物理和可擴(kuò)展仿真模型功能!

          • 過(guò)去,仿真的基礎(chǔ)是行為和具有基本結(jié)構(gòu)的模型。這些模型使用的公式我們?cè)趯W(xué)校都學(xué)過(guò),它們主要適用于簡(jiǎn)單集成電路技術(shù)中使用的器件。但是,當(dāng)涉及到功率器件時(shí),這些簡(jiǎn)單的模型通常無(wú)法預(yù)測(cè)與為優(yōu)化器件所做的改變相關(guān)的現(xiàn)象。當(dāng)今大多數(shù)功率器件不是橫向結(jié)構(gòu),而是垂直結(jié)構(gòu),它們使用多個(gè)摻雜層來(lái)處理大電場(chǎng)。柵極從平面型變?yōu)闇喜坌?,引入了更?fù)雜的結(jié)構(gòu),如超級(jí)結(jié),并極大地改變了MOSFET的行為?;維pice模型中提供的簡(jiǎn)單器件結(jié)構(gòu)沒(méi)有考慮所有這些非線性因素?,F(xiàn)在,通過(guò)引入物理和可擴(kuò)展建模技術(shù),安森美(onsemi)使仿真精度
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          如何使用LTspice獲得出色的EMC仿真結(jié)果

          • 隨著物聯(lián)網(wǎng)互聯(lián)設(shè)備和5G連接等技術(shù)創(chuàng)新成為我們?nèi)粘I畹囊徊糠郑O(jiān)管這些設(shè)備的電磁輻射并量化其EMI抗擾度的需求也隨之增加。滿足EMC合規(guī)目標(biāo)通常是一項(xiàng)復(fù)雜的工作。本文將介紹如何通過(guò)開源LTspice仿真電路來(lái)回答以下關(guān)鍵問(wèn)題:(a)?我的系統(tǒng)能否通過(guò)EMC測(cè)試,或者是否需要增加緩解技術(shù)?(b)?我的設(shè)計(jì)對(duì)外部環(huán)境噪聲的抗擾度如何?為何要使用LTspice進(jìn)行EMC仿真?針對(duì)EMC的設(shè)計(jì)應(yīng)該盡可能遵循產(chǎn)品發(fā)布日程表,但事實(shí)往往并非如此,因?yàn)镋MC問(wèn)題和實(shí)驗(yàn)室測(cè)試可能將產(chǎn)品發(fā)布延遲數(shù)月。
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          VIAVI率先推出RedCap設(shè)備仿真,推動(dòng)5G物聯(lián)網(wǎng)商業(yè)化

          • 中國(guó)上海,2023 年 8 月10日 – VIAVI Solutions(納斯達(dá)克股票代碼:VIAV)近日推出業(yè)界首款用于 5G 網(wǎng)絡(luò)測(cè)試的輕量級(jí)(RedCap)設(shè)備仿真,實(shí)現(xiàn)真正意義上的RedCap性能驗(yàn)證,RedCap是基于新一類更簡(jiǎn)單、更低成本設(shè)備(包括可穿戴設(shè)備、工業(yè)無(wú)線傳感器和視頻監(jiān)控)的物聯(lián)網(wǎng)(IoT)和專用網(wǎng)絡(luò)。該解決方案基于TM500 網(wǎng)絡(luò)測(cè)試平臺(tái),被廣大網(wǎng)絡(luò)設(shè)備制造商用于基站性能測(cè)試。?3GPP在5G NR R17標(biāo)準(zhǔn)中引入了 RedCap 設(shè)備,也稱為寬帶物聯(lián)網(wǎng)或 NR-Li
          • 關(guān)鍵字: VIAVI  RedCap  仿真  5G物聯(lián)網(wǎng)  

          屏蔽電纜單端接地與雙端接地電容效應(yīng)仿真研究

          • 屏蔽電纜的屏蔽層主要是作為電磁輻射、電磁干擾和接地保護(hù)的作用。屏蔽層懸浮電位的接地主要有單點(diǎn)接地、多點(diǎn)接地、交叉互聯(lián)和連續(xù)交叉互聯(lián)等方式。對(duì)于接地的屏蔽電纜是由電容效應(yīng)和電感效應(yīng)組成的。本文通過(guò)仿真模擬137/220 kV屏蔽電纜單端接地與雙端接地的電容效應(yīng),研究不同高壓輸電線路下屏蔽電纜的電壓電流分布特性,進(jìn)而分析220、330、500 kV屏蔽電纜屏蔽層的電壓電流特性和損耗特性。
          • 關(guān)鍵字: 202305  屏蔽電纜  屏蔽層  接地  仿真  電容效應(yīng)  

          電路老化不均勻成為 IC 設(shè)計(jì)師面對(duì)的大問(wèn)題

          • 半導(dǎo)體行業(yè)在了解 IC 老化如何影響可靠性方面正在取得進(jìn)展,但仍有問(wèn)題待解決。
          • 關(guān)鍵字: Cadence  仿真  

          某大功率短波發(fā)射機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

          • 為了設(shè)計(jì)出滿足用戶要求的大功率短波發(fā)射機(jī)結(jié)構(gòu),詳細(xì)描述了結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)思路,通過(guò)介紹整機(jī)結(jié)構(gòu)布局設(shè)計(jì)、機(jī)柜機(jī)箱設(shè)計(jì)、熱設(shè)計(jì)和散熱仿真,達(dá)到對(duì)大功率短波發(fā)射機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)作總結(jié)的目的,對(duì)短波通信行業(yè)的設(shè)計(jì)人員提供一定參考。
          • 關(guān)鍵字: 短波  大功率  液冷  仿真  202212  

          兼容性和差異化是國(guó)產(chǎn)仿真EDA必須錘煉的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)

          • 隨著美國(guó)正式簽署《芯片與科學(xué)法案》,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)計(jì)公司對(duì)于國(guó)際EDA 的使用限制將越來(lái)越嚴(yán)格。但是,考慮到當(dāng)前絕大多數(shù)的設(shè)計(jì)公司還在使用國(guó)際EDA 廠商的設(shè)計(jì)流程,作為后來(lái)者的國(guó)產(chǎn)EDA 公司,目前絕大多數(shù)是點(diǎn)工具,且愿意使用的設(shè)計(jì)企業(yè)非常有限。面對(duì)困局,我們采訪了國(guó)內(nèi)EDA 的領(lǐng)先企業(yè)芯和半導(dǎo)體的聯(lián)合創(chuàng)始人代文亮博士。代博士提出了一個(gè)很重要的觀點(diǎn):國(guó)產(chǎn)EDA 要搶占市場(chǎng)需要打破用戶的使用門檻,增強(qiáng)用戶體驗(yàn)。首先是與現(xiàn)有國(guó)際設(shè)計(jì)流程的融合,讓用戶先能用起來(lái)。在這個(gè)過(guò)程中,相比用戶對(duì)布局布線工具的天然排他性
          • 關(guān)鍵字: 202209  仿真  EDA  

          仿真市場(chǎng)潛力無(wú)限,IDC《中國(guó)制造業(yè)數(shù)字孿生——CAE市場(chǎng)份額報(bào)告》正式發(fā)布

          • 2021年11月,工業(yè)和信息化部出臺(tái)的《“十四五”軟件和信息技術(shù)服務(wù)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》明確部署了推動(dòng)軟件產(chǎn)業(yè)鏈升級(jí)、提升產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)保障水平、強(qiáng)化產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展能力、激發(fā)數(shù)字化發(fā)展新需求和完善協(xié)同共享產(chǎn)業(yè)生態(tài)五項(xiàng)主要任務(wù),明確提出突破三維幾何建模引擎、約束求解引擎等關(guān)鍵技術(shù)。國(guó)內(nèi)市場(chǎng)隨著中國(guó)制造的數(shù)字化轉(zhuǎn)型升級(jí),千行百業(yè)對(duì)研發(fā)設(shè)計(jì)類工業(yè)軟件需求愈發(fā)增加。IDC于2022年7月對(duì)外發(fā)布了《IDC 中國(guó)制造業(yè)數(shù)字孿生-CAE 市場(chǎng)廠商份額,2021:潛力無(wú)限》(#CHC48628722)。報(bào)告針對(duì)2021年中國(guó)制造業(yè)計(jì)算
          • 關(guān)鍵字: 仿真  IDC  制造業(yè)  數(shù)字孿生  CAE  
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          仿真介紹

          仿真英文全稱是 :Simulation 即:使用項(xiàng)目模型將特定于某一具體層次的不確定性轉(zhuǎn)化為它們對(duì)目標(biāo)的影響,該影響是在項(xiàng)目整體的層次上表示的。項(xiàng)目仿真利用計(jì)算機(jī)模型和某一具體層次的風(fēng)險(xiǎn)估計(jì),一般采用蒙特卡洛法進(jìn)行仿真。   利用模型復(fù)現(xiàn)實(shí)際系統(tǒng)中發(fā)生的本質(zhì)過(guò)程,并通過(guò)對(duì)系統(tǒng)模型的實(shí)驗(yàn)來(lái)研究存在的或設(shè)計(jì)中的系統(tǒng),又稱模擬。這里所指的模型包括物理的和數(shù)學(xué)的,靜態(tài)的和動(dòng)態(tài)的,連續(xù)的和離散 [ 查看詳細(xì) ]

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