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微光刻文章進(jìn)入微光刻技術(shù)社區(qū)

IMEC將在SPIE會(huì)議上發(fā)布下一代半導(dǎo)體微光刻研究進(jìn)展

??????? IMEC將于2月23日至27日在美國加州San Jose舉行的SPIE先進(jìn)微光刻會(huì)議上展現(xiàn)半導(dǎo)體光刻研究中最新的研發(fā)突破。 ??????? IMEC將在會(huì)上發(fā)表26片論文。這些論文報(bào)道了IMEC及其世界領(lǐng)先的EUV和雙版光刻技術(shù)合作伙伴在32nm以下節(jié)點(diǎn)光刻技術(shù)中所獲得的成果。光刻技術(shù)的一系列挑戰(zhàn)都在這些論文中有所涉及，包括材料、制造工藝、測量、檢測
關(guān)鍵字： IMEC 微光刻半導(dǎo)體

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微光刻介紹

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