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光刻膠和掩膜版，純國(guó)產(chǎn)芯片生產(chǎn)需要克服的兩個(gè)重要障礙

• 無(wú)法制造純國(guó)產(chǎn)的高端芯片，是國(guó)人心中隱隱的痛！目前來(lái)說(shuō)，阻礙國(guó)產(chǎn)高端芯片的最大瓶頸就是極紫外光刻機(jī)。但是，即使有了極紫外光刻機(jī)，也需要光刻膠和掩膜版來(lái)進(jìn)行配套才行。一、光刻機(jī)不是直接刻蝕芯片正如上一個(gè)關(guān)于光刻機(jī)的視頻所說(shuō)，芯片生產(chǎn)用的光刻機(jī)，只是起到曝光的作用，并不進(jìn)行刻蝕。要想用光刻機(jī)進(jìn)行直接刻蝕，必然面臨以下幾個(gè)難題。首先，要把激光功率做到足夠大，需要把硅或一些金屬氧化物直接氣化剝離。目前來(lái)說(shuō)，波長(zhǎng)越短的激光光源制造越困難，實(shí)現(xiàn)大功率越難，現(xiàn)有的紫外、極紫外光源難以產(chǎn)生足夠強(qiáng)的激光。尤其是極紫外光源，
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