清洗 文章 進(jìn)入清洗技術(shù)社區(qū)
半導(dǎo)體清洗技術(shù)
- 中心議題: 半導(dǎo)體清洗技術(shù)的進(jìn)展 當(dāng)前與未來的挑戰(zhàn) 解決方案: 濕法清洗 廣泛使用臭氧水 晶圓清洗是半導(dǎo)體制造典型工序中最常應(yīng)用的加工步驟。就硅來說,清洗操作的化學(xué)制品和工具已非常成熟,有多年廣泛深入的研究以及重要的工業(yè)設(shè)備的支持。所以,硅清洗技術(shù)在所有具實際重要性的半導(dǎo)體技術(shù)中是最為成熟的。第一個完整的、基于科學(xué)意義上的清洗程序在1970年就提出了,這是專門設(shè)計用于清除Si表面的微粒、金屬和有機(jī)污染物。 此后,硅清洗技術(shù)經(jīng)歷了持續(xù)的發(fā)展改進(jìn),包括早期用氣相等
- 關(guān)鍵字: 半導(dǎo)體 清洗
共3條 1/1 1 |
清洗介紹
您好,目前還沒有人創(chuàng)建詞條清洗!
歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對清洗的理解,并與今后在此搜索清洗的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對清洗的理解,并與今后在此搜索清洗的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473