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          Intel 22nm光刻工藝背后的故事
          
						
          
				作者：
				時(shí)間：2010-03-22
				來源：驅(qū)動之家
				
				
				
				
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          　　去年九月底的舊金山秋季IDF 2009論壇上，Intel第一次向世人展示了22nm工藝晶圓，并宣布將在2011年下半年發(fā)布相關(guān)產(chǎn)品。
          本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/107110.htm

          　　當(dāng)然了，新型半導(dǎo)體工藝的實(shí)現(xiàn)并不是Intel一家就能做到的，背后默默貢獻(xiàn)半導(dǎo)體設(shè)備的功臣卻往往不為人所知。Arete Research LLC公司的分析師Jagadish Iyer在一份報(bào)告中指出，Intel即將最終決定22nm光刻工藝設(shè)備的供應(yīng)商，最終入圍的是荷蘭ASML Holding NV和日本尼康兩家。
          

          　　其實(shí)在更早的45nm世代，ASML和尼康也曾雙雙成為Intel的光刻設(shè)備供應(yīng)商，但在32nm節(jié)點(diǎn)上Intel首次應(yīng)用了沉浸式光刻技術(shù)，只有尼康一家提供相關(guān)設(shè)備，如今ASML又要回來了。
          

          　　此番ASML提供的光刻機(jī)為“NXT:1950i”，每臺平均售價(jià)4000萬歐元(5440萬美元)，負(fù)責(zé)40%的前道(FEOL)光刻層;尼康的光刻機(jī)則是“S620D”，報(bào)價(jià)3000萬美元，負(fù)責(zé)60%的后道(BEOL)光刻層。Intel的22nm工藝將有45個光刻層，其中55%需要進(jìn)行沉浸式光刻。
          

          　　在22nm工藝上，Intel會繼續(xù)使用193nm沉浸式光刻，而最近披露的一份路線圖顯示它會一直延續(xù)到11nm工藝節(jié)點(diǎn)，這也就意味著極紫外(EUV)光刻又被推后了。
          

          　　Jagadish Iyer估計(jì)到今年底的時(shí)候Intel能每月生產(chǎn)大約5000塊22nm晶圓，2011-2012年間四座晶圓廠全力開工，每座每月可生產(chǎn)大約4.5萬塊22nm晶圓，一個月合計(jì)18萬塊左右。
          
				
            
                
			
							
          
                
			              
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
            
				
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            			            晶圓
                        22nm
                        
            
          
            
			
          
		
          	
		

	

          
	
	
          
		
          
			
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