Maskless Lithography推出用于大批量PCB生產(chǎn)的直寫光刻設(shè)備

　　Maskless Lithography公司今天首次公開推出全新的可提高印制電路板(PCB) 生產(chǎn)門檻的直寫數(shù)字成像技術(shù)。這種MLI-2027直寫光刻系統(tǒng)首次在業(yè)內(nèi)同時實現(xiàn)高精度、高生產(chǎn)效率和高成品率，並采用標(biāo)準(zhǔn)的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蝕劑。Maskless公司今天還宣布Sanmina-SCI公司通過在洛杉磯的工廠中對Maskless MLI-2027設(shè)備進(jìn)行測試、驗證和認(rèn)證后，購買了該公司的首臺產(chǎn)品。

　　“這臺設(shè)備的售出標(biāo)志著我們五年的研發(fā)工作已經(jīng)開花結(jié)果，” Maskless Lithography公司的創(chuàng)立者兼CTO Dan Meisburger博士表示，“2005年，憑借我們合作創(chuàng)始人在光刻和測試領(lǐng)域的豐富經(jīng)驗，我們發(fā)現(xiàn)我們可開發(fā)出一種能為PCB市場提供巨大價值的光刻系統(tǒng)。我們相信現(xiàn)在我們已經(jīng)超越了最初的構(gòu)想，已做好分享這種已通過試驗和測試的產(chǎn)品的準(zhǔn)備。”

　　MLI-2027是一種高效率、高產(chǎn)出的PCB生產(chǎn)系統(tǒng)，它通過提供一種更加節(jié)約成本的光刻技術(shù)來提高PCB產(chǎn)商的盈利能力。這種光刻技術(shù)與市場上的其它產(chǎn)品相比，具有更高的成品率和投資回報率?；谝炎詫＠幕叶燃壋上?trade;(GLI)技術(shù)，這種MLI-2027產(chǎn)品在傳統(tǒng)的干膜抗蝕劑(dry film resists)上具有超高印刷速度，同時還能進(jìn)行畸變校正。

　　“我們對Maskless推出的這種獨(dú)特的直寫光刻設(shè)備印象深刻，” Sanmina-SCI公司的運(yùn)營副總裁Mike Keri表示，“MLI-2027讓我們能夠采用傳統(tǒng)的產(chǎn)品在傳統(tǒng)的干膜抗蝕劑(dry film resists)來實現(xiàn)具有高挑戰(zhàn)性的設(shè)計，同時擁有高成品率和高生產(chǎn)效率。”