Lasertec護膜和掩膜雜質(zhì)粒子檢查設(shè)備 —— 作者: 時間:2006-01-30 來源: 加入技術(shù)交流群 掃碼加入和技術(shù)大咖面對面交流海量資料庫查詢 收藏 Lasertec日前宣布成功地推出了新型護膜和掩膜異物檢查設(shè)備——PEGSIS P100。這個設(shè)備能與90nm甚至更小尺寸半導(dǎo)體器件設(shè)計規(guī)則的掩膜兼容,具有很高的檢查速率和靈敏度。Lasertec將這個產(chǎn)品視為2006年之前的旗艦產(chǎn)品,計劃在2006年受理10部訂單。 該設(shè)備不僅將檢測靈敏度提高到了4μm,還能通過明視場檢查進行缺陷檢測。只要缺陷的種類清楚了,就能選擇合理的洗凈方法。今后幾個月內(nèi)還將配備可清除異物的選配功能,據(jù)介紹能夠當場清除異物。包括掩膜搬運等時間在內(nèi)護膜表面和掩膜背面的檢測時間不足10分鐘。
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