宏力半導(dǎo)體發(fā)布0.13微米鋁制程邏輯及混合信號工藝
上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 (宏力半導(dǎo)體)近日發(fā)布其低本高效的0.13微米鋁制程邏輯及混合信號工藝。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/110733.htm與0.18微米技術(shù)節(jié)點(diǎn)相比,0.13微米可以將芯片尺寸最多縮小50%并使其提供更快的速度。宏力半導(dǎo)體的0.13微米鋁制程邏輯及混合信號工藝可以提供通用和低壓制程兩個選擇。通用制程的核心邏輯電壓是1.2伏,而低壓制程則為1.5伏。該制程可以支持最多7層金屬層,同時提供MIM, HRP 和 DNW等支持混合信號設(shè)計,并提供不同性能的器件,客戶可以進(jìn)行更優(yōu)化的芯片設(shè)計。
與0.13微米銅制程相比,宏力半導(dǎo)體的0.13微米鋁制程邏輯及混合信號工藝可以提供一個低本高效的解決方案和卓越的性能。經(jīng)過驗(yàn)證的設(shè)計規(guī)則以及SPICE 仿真模型可以方便客戶的現(xiàn)有產(chǎn)品從銅制程遷移至鋁制程,或者從低端技術(shù)節(jié)點(diǎn)轉(zhuǎn)到0.13微米,從而縮短客戶產(chǎn)品的上市周期。與此同時,宏力半導(dǎo)體與設(shè)計服務(wù)公司合作提供專業(yè)、完整并通過硅認(rèn)證的單元庫和IP模塊以滿足客戶芯片設(shè)計的需求。除此以外,基于宏力半導(dǎo)體成熟的光縮技術(shù),該制程還可縮小至0.115微米,從而為客戶在每片晶圓上提供多于20%的裸片。
“宏力半導(dǎo)體一直執(zhí)行著差異化技術(shù)的戰(zhàn)略,因此我們研發(fā)了0.13微米的鋁制程邏輯及混合信號工藝。當(dāng)幾年前晶圓代工廠剛剛開發(fā)0.13微米制程的時候,銅由于其更優(yōu)良的電遷移以及更好的導(dǎo)電性能而成為首選。隨著越來越多的產(chǎn)品設(shè)計,尤其是消費(fèi)類電子產(chǎn)品的技術(shù)開始遷移到0.13微米的制程,業(yè)者普遍希望能夠有更為低本高效的解決方案。”宏力半導(dǎo)體銷售市場服務(wù)單位資深副總衛(wèi)彼得博士表示,“宏力半導(dǎo)體已經(jīng)擁有豐富的邏輯產(chǎn)品的量產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),其良率和品質(zhì)也是一流的。這個新的平臺將在更大程度上滿足消費(fèi)類電子產(chǎn)品的客戶,比如:閃存控制器、數(shù)碼相框、電腦攝像頭、音頻及視頻解碼器等。”
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