霍尼韋爾將擴(kuò)大靶材及相關(guān)金屬材料的產(chǎn)能

　　美國新澤西州莫里斯鎮(zhèn) 2010 年10 月 11 日訊——霍尼韋爾公司電子材料部今日宣布，作為長期投資計劃的一部分，公司將擴(kuò)大 300mm 濺射靶材及相關(guān)金屬材料的產(chǎn)能，以適應(yīng)半導(dǎo)體行業(yè)需求的反彈。

　　霍尼韋爾將提高靶材產(chǎn)量以及用于制造靶材的銅、鈷、鈦和鎢等原材料的內(nèi)部產(chǎn)能。此次擴(kuò)大產(chǎn)能將有助于霍尼韋爾滿足不斷增長的靶材需求，靶材主要用作制造先進(jìn)半導(dǎo)體電路的金屬源。

　　“霍尼韋爾一直致力于發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，我們將進(jìn)行必要的投資，以確保公司能夠支持半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展。”霍尼韋爾電子材料部 PVD 濺射靶材產(chǎn)品線負(fù)責(zé)人Mike Norton 說，“我們長期以來的努力加上我們重要原材料的整合能力，使我們能夠更好地滿足客戶需求。”

　　半導(dǎo)體行業(yè)渡過了低谷時期，目前正在企穩(wěn)回升，預(yù)計到 2010 年年底，整個行業(yè)將可實(shí)現(xiàn) 25%以上的增長。一些領(lǐng)先半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商已發(fā)布 2011 年將繼續(xù)擴(kuò)大半導(dǎo)體產(chǎn)量的預(yù)告。

　　為了滿足不斷增長的需求，霍尼韋爾將在流程優(yōu)化、資源擴(kuò)充和新設(shè)備購置等方面投入資金，并將在今年年底前把銅、鈷和鈦等原材料的產(chǎn)能分別提高 110%、100% 和 35%，而 300mm 濺射靶材的產(chǎn)能將提高 90% 以上。另外，公司還計劃在明年將鎢的產(chǎn)能翻番，以滿足日益增長的先進(jìn) 300mm 設(shè)備的應(yīng)用需求。

　　霍尼韋爾是生產(chǎn)濺射靶材的領(lǐng)先生產(chǎn)商。銅、鈷、鈦和鎢等金屬主要用于制造集成電路的導(dǎo)電線路。除了制造靶材外，霍尼韋爾還垂直滲透到原材料的生產(chǎn)中，并提供各種專用于半導(dǎo)體行業(yè)的材料。因此，在原材料短缺和/或行業(yè)波動時期，我們的供應(yīng)鏈可以為客戶提供更好的質(zhì)量控制和交貨保證。

　　目前，出于制造和成本優(yōu)勢的考慮，整個行業(yè)正逐漸轉(zhuǎn)向更大尺寸的 300mm 晶圓生產(chǎn)，并且霍尼韋爾在過去數(shù)年中也已增加了用于支持 300mm 晶圓生產(chǎn)的靶材產(chǎn)能。公司在華盛頓州斯波坎和韓國鎮(zhèn)川設(shè)有生產(chǎn)靶材的工廠，此外在科羅拉多州戈?duì)柕堑乃共埠唾e夕法尼亞州的福姆貝爾擁有生產(chǎn)各種金屬材料的工廠。

　　霍尼韋爾電子材料部隸屬于霍尼韋爾特殊材料集團(tuán)，主要生產(chǎn)微電子聚合物、電子化工產(chǎn)品和其他先進(jìn)材料，此外電子材料部旗下的金屬業(yè)務(wù)部還提供各種產(chǎn)品，包括物理氣相沉積 (PVD) 靶材和線圈組、貴金屬熱電偶以及用于熱管理和電氣互連的各種材料。