日本半導(dǎo)體大廠Elpida、Toshiba提高新款內(nèi)存產(chǎn)量

　　日本半導(dǎo)體大廠爾必達(Elpida)與東芝(Toshiba)決定自2011年7月起，增加新款儲存內(nèi)存產(chǎn)量。其中爾必達決定加強日本廣島工廠和臺灣工廠的產(chǎn)能, 將產(chǎn)能提升至75%，確保搶先開發(fā)出25納米DRAM的先機。東芝則決定于2011年9月將產(chǎn)能提升至60%，穩(wěn)定技術(shù)領(lǐng)先地位。

　　爾必達在2011年6月底的新款DRAM生產(chǎn)比例為15%，而產(chǎn)業(yè)龍頭南韓面板大廠三星電子(Samsung Electronics)的比例估計為50%。爾必達預(yù)估三星最快將于2011年12月推出25納米DRAM，因此刻意猛沖產(chǎn)量，鞏固率先開發(fā)25納米DRAM所帶來的先機。

　　爾必達于2011年5月創(chuàng)下世界首例，成功開發(fā)25納米DRAM，同時該公司重新檢討DRAM設(shè)計電路，創(chuàng)立能用較低成本生產(chǎn)DRAM的方法，使設(shè)備投資成本控制在以往的3分之1到4分之1，能以較南韓、臺灣、美國等同業(yè)更低的成本，生產(chǎn)新款DRAM。

　　世界第2大閃存廠東芝，決定讓設(shè)置于日本三重縣四日市的新工廠，成為專門制造新款24納米、19納米內(nèi)存的中央工廠。該公司以往新產(chǎn)品都采少量生產(chǎn)政策，本次趁著新工廠成立，決定在2011年9月一口氣將生產(chǎn)比例提高至60%。

　　東芝在閃存的微細化技術(shù)，一直是世界指標(biāo)，與三星約有半年的技術(shù)差距，但和英特爾(Intel)及美光(Micron)競爭激烈。該公司計劃設(shè)立新工廠，并大量生產(chǎn)新款產(chǎn)品，確保對海外大廠的優(yōu)勢。

　　半導(dǎo)體業(yè)界中，日本企業(yè)的稅務(wù)與人事費用、水電等雜項支出，都比南韓、臺灣來得吃重。如今又適逢日圓升值、美元下跌，使收益變相減少。因此為增加利潤，大廠決定加強生產(chǎn)新款產(chǎn)品，讓收益穩(wěn)定。