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          GlobalFoundries 20nm工藝成功流片
          
						
          —— 是新工藝發(fā)展之路上里程碑式的關(guān)鍵一步
          
						
          
				作者：
				時(shí)間：2011-08-31
				來源：驅(qū)動(dòng)之家 
				
				
				
				
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          　　GlobalFoundries今天宣布，最新的20nm工藝試驗(yàn)芯片已于近日成功流片，這也是新工藝發(fā)展之路上里程碑式的關(guān)鍵一步。
          本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/123071.htm

          　　GlobalFoundries 20nm工藝使用了四家電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)廠商的工藝流程，分別是Cadence Design Systems、Magma Design Automation、Mentor Graphics Corporation、Synopsys Inc.。
          

          　　通過此次成功流片，GlobalFoundries證明自己已經(jīng)做好準(zhǔn)備，可以接受客戶對20nm新工藝的評估了，不過除了暢談和幾家EDA伙伴之間的親密合作之外，GlobalFoundries并未透露新工藝的更多細(xì)節(jié)，博包括使用了哪些新技術(shù)、有哪些潛在客戶、何時(shí)能夠量產(chǎn)等等。
          

          　　20nm是迄今為止最為先進(jìn)的半導(dǎo)體技術(shù)。今年初的時(shí)候，IBM曾經(jīng)展示過全世界第一塊20nm工藝晶圓，使用了HKMG和Gate-Last技術(shù)。七月中旬的時(shí)候，三星電子也宣布完成了全球第一顆20nm工藝試驗(yàn)芯片的流片。
          

          　　根據(jù)此前消息，GlobalFoundries 22/20nm可能會(huì)首次使用先進(jìn)的極紫外光刻技術(shù)，唯一的問題就是要到2014-2015年才能量產(chǎn)。曾有一份AMD路線圖顯示2013年的服務(wù)器處理器會(huì)采用28nm工藝，這是否意味著AMD會(huì)耐心等待極紫外光刻的20nm呢?
          
				
            
                
			
							
          
                
			              
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
            
				
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                        20nm
                        
            
          
            
			
          
		
          	
		

	

          
	
	
          
		
          
			
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