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          GLOBALFOUNDRIES代工意法半導體28納米和20納米芯片

          —— 意法半導體的FD-SOI芯片的量產和上市將起到至關重要的作用
          作者: 時間:2012-06-18 來源:IC設計與制造 收藏

            宣布,引領全球半導體技術升級的半導體代工廠商GLOBALFOUNDRIES將采用專有的FD-SOI(FullyDepletedSilicon-on-Insulator,全耗盡絕緣體上硅)技術為制造28納米和20納米芯片。當今的消費者對智能手機和平板電腦的期望越來越高,要求既能處理精美的圖片,支持多媒體和高速寬帶上網功能,同時又不能犧牲電池壽命。在設備廠商滿足消費者這些需求的努力中,意法半導體的FD-SOI芯片的量產和上市將起到至關重要的作用。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/133603.htm

            多媒體融合應用需要性能和能效兼?zhèn)涞陌雽w技術。隨著芯片外觀尺寸不斷縮小,傳統(tǒng)技術無法使晶體管的性能和電池壽命同時達到最高水準,無法在實現最優(yōu)性能的同時確保溫度不超過安全限制。解決之道是采用FD-SOI技術,該技術兼?zhèn)渥罡咝阅?、低工作功?在各種應用中,降低電源功率后還能保持良好的性能)和低待機功耗。

            憑借其注重成本效益的平面型FD-SOI技術,意法半導體率先推出了28納米的全耗盡型器件,遙遙領先競爭對手。為FD-SOI貨源提供雙重保障,意法半導體與GLOBALFOUNDRIES簽訂了代工協(xié)議,以補充意法半導體位于法國Crolles工廠的產能。28n納米FD-SOI器件目前已商用化,預計于2012年7月前投入原型設計;而20納米FD-SOI器件目前處于研發(fā)階段,預計2013年第三季度投入原型設計。

            意法半導體的FD-SOI技術已被ST-Ericsson用于下一代移動平臺,這項技術將使ST-Ericsson的NovaThor平臺具有更高的性能和更低的功耗,在發(fā)揮最高性能的時候可降低功耗達35%。

            意法半導體計劃向GLOBALFOUNDRIES的其它客戶開放FD-SOI技術,讓他們能夠使用目前最先進的28納米和20納米技術研發(fā)產品。



          關鍵詞: 意法半導體 20nm 28nm

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