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          Cadence解決方案助力創(chuàng)意電子20納米SoC測試芯片成功流片

          —— Cadence Encounter數(shù)字實現(xiàn)系統(tǒng)與Cadence光刻物理分析器可降低風(fēng)險并縮短設(shè)計周期
          作者: 時間:2013-07-10 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

            全球電子設(shè)計創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)設(shè)計系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS) 日前宣布,設(shè)計服務(wù)公司創(chuàng)意電子(GUC)使用® Encounter®數(shù)字實現(xiàn)系統(tǒng)(EDI)和光刻物理分析器成功完成20納米系統(tǒng)級芯片(SoC)測試芯片流片。雙方工程師通過緊密合作,運用Cadence解決方案克服實施和可制造性設(shè)計()驗證挑戰(zhàn),并最終完成設(shè)計。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/147341.htm

            在開發(fā)過程中,創(chuàng)意電子使用Cadence Encounter解決方案用于支持20納米布局布線流程所有的復(fù)雜步驟,包括雙圖形庫的制備、布局、時鐘樹綜合、保持固定、布線和布線后優(yōu)化。創(chuàng)意公司還使用Cadence Litho Physical Analyzer ( 光刻物理分析器)用于驗證,將20納米工藝變化的不確定性變成可預(yù)見影響從而有助于縮短設(shè)計周期。

            “我們選擇Cadence作為這項開發(fā)的合作伙伴是由于Cadence在高級節(jié)點方面具有被證實的經(jīng)驗,” 創(chuàng)意電子設(shè)計方法部總監(jiān)曾凱文先生表示。“臺積電工藝20納米SoC測試芯片的成功流片是雙方緊密合作和Cadence Encounter與解決方案高性能表現(xiàn)的直接成果。”

            “隨著客戶轉(zhuǎn)向20納米,他們正面臨新的挑戰(zhàn),例如雙成形和工藝變化等都大大增加了風(fēng)險,”Cadence Silicon Realization集團(tuán)研發(fā)高級副總裁徐季平博士表示。“Cadence已在實施和DFM驗證工具方面解決了這些高級節(jié)點的挑戰(zhàn)。公司正與合作伙伴緊密協(xié)作來驗證這些新流程以降低風(fēng)險,使其更容易讓客戶胸有成竹轉(zhuǎn)向20納米制程節(jié)點。



          關(guān)鍵詞: Cadence DFM

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