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          相變存儲器--非易失性計算機存儲器技術(shù)介紹

          作者: 時間:2012-08-16 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          (可縮略表示為PCM、PRAM或PCRAM)是一種新興的。它可能在將來代替閃存,因為它不僅比閃存速度快得多,更容易縮小到較小尺寸,而且復(fù)原性更好,能夠?qū)崿F(xiàn)一億次以上的擦寫次數(shù)。本文將為您的基本原理及其最新的測試。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/148574.htm

            何為PCM,它是如何工作的?

            PCM存儲單元是一種極小的硫族合金顆粒,通過電脈沖的形式集中加熱的情況下,它能夠從有序的晶態(tài)(電阻低)快速轉(zhuǎn)變?yōu)闊o序的非晶態(tài)(電阻高得多)。同樣的材料還廣泛用于各種可擦寫光學(xué)介質(zhì)的活性涂層,例如CD和DVD。從晶態(tài)到非晶態(tài)的反復(fù)轉(zhuǎn)換過程是由熔化和快速冷卻機制觸發(fā)的(或者一種稍慢的稱為再結(jié)晶的過程)。最有應(yīng)用前景的一種PCM材料是GST(鍺、銻和碲),其熔點范圍為500o–600oC。

            這些合金材料的晶態(tài)和非晶態(tài)電阻率大小的差異能夠存儲二進制數(shù)據(jù)。高電阻的非晶態(tài)用于表示二進制0;低電阻的晶態(tài)表示1。最新的PCM設(shè)計與材料能夠?qū)崿F(xiàn)多種不同的值,例如,具有16種晶態(tài),而不僅僅是兩種狀態(tài),每種狀態(tài)都具有不同的電氣特性。這使得單個存儲單元能夠表示多個比特,從而大大提高了存儲密度,這是目前閃存無法實現(xiàn)的。

            非晶態(tài)與晶態(tài)

            簡單非晶態(tài)與晶態(tài)之間的差異有助于我們搞清楚PCM器件的工作原理。

            在非晶態(tài)下,GST材料具有短距離的原子能級和較低的自由電子密度,使得其具有較高的電阻率。由于這種狀態(tài)通常出現(xiàn)在RESET操作之后,我們一般稱其為RESET狀態(tài),在RESET操作中DUT的溫度上升到略高于熔點溫度,然后突然對GST淬火將其冷卻。冷卻的速度對于非晶層的形成至關(guān)重要。非晶層的電阻通常可超過1兆歐。

            在晶態(tài)下,GST材料具有長距離的原子能級和較高的自由電子密度,從而具有較低的電阻率。由于這種狀態(tài)通常出現(xiàn)在SET操作之后,我們一般稱其為SET狀態(tài),在SET操作中,材料的溫度上升高于再結(jié)晶溫度但是低于熔點溫度,然后緩慢冷卻使得晶粒形成整層。晶態(tài)的電阻范圍通常從1千歐到10千歐。晶態(tài)是一種低能態(tài);因此,當(dāng)對非晶態(tài)下的材料加熱,溫度接近結(jié)晶溫度時,它就會自然地轉(zhuǎn)變?yōu)榫B(tài)。

            PCM器件的結(jié)構(gòu)

            圖1中的原理圖給出了一種典型GST PCM器件的結(jié)構(gòu)。一個電阻連接在GST層的下方。加熱/熔化過程只影響該電阻頂端周圍的一小片區(qū)域。擦除/RESET脈沖施加高電阻即邏輯0,在器件上形成一片非晶層區(qū)域。擦除/RESET脈沖比寫/SET脈沖要高、窄和陡峭。SET脈沖用于置邏輯1,使非晶層再結(jié)晶回到結(jié)晶態(tài)。

            

           PCM器件的典型結(jié)構(gòu) www.elecfans.com


            圖1. PCM器件的典型結(jié)構(gòu)

            對PCM器件進行特征分析的脈沖需求

            我們必須仔細選擇所用RESET和SET脈沖的電壓和電流大小,以產(chǎn)生所需的熔化和再結(jié)晶過程。RESET脈沖應(yīng)該將溫度上升到恰好高于熔點,然后使材料迅速冷卻形成非晶態(tài)。SET脈沖應(yīng)該將溫度上升到恰好高于再結(jié)晶溫度但是低于熔點,然后通過較長的時間冷卻它;因此,SET脈沖的脈寬和下降時間應(yīng)該比RESET脈沖長。

            1微秒左右的脈沖寬度通常就足夠了。這種長度的脈沖將產(chǎn)生足夠的能量使PCM材料熔化或者再結(jié)晶。脈沖電壓應(yīng)該高達6V,要想達到熔化溫度則需要更高的電壓。電流大小范圍在0.3~3mA之間。

            RESET脈沖的下降時間是一個關(guān)鍵的參數(shù)。PCM的狀態(tài)決定了所需的最小下降時間。目前,一般的需求是30~50納秒。更新的材料將需要更短的下降時間。如果脈沖的下降時間長于所需的時間,那么材料可能無法有效淬火形成非晶態(tài)。

            對PCM材料進行特征分析的關(guān)鍵參數(shù)

            開發(fā)新的PCM材料并優(yōu)化器件設(shè)計的能力在很大程度上取決于制造商對幾個參數(shù)進行特征分析的能力:

            ·再結(jié)晶速率——目前的再結(jié)晶速率為幾十納秒的量級,但是它們可能很快會下降到幾納秒的量級。這將會縮短測量所需的時間,使其變得越來越緊張。

            ·數(shù)據(jù)保持——如前所述,SET狀態(tài)是一種能量較低的狀態(tài),PCM材料往往會自然地再結(jié)晶。結(jié)晶的速率與溫度有關(guān)。因此,數(shù)據(jù)保持時間可以定義為在某個最高溫度下,數(shù)據(jù)(即RESET狀態(tài))保持不變和穩(wěn)定的特定時間周期(通常為10年)。

            ·反復(fù)耐久性——這個參數(shù)衡量的是一個存儲單元能被成功編程為0和1狀態(tài)的次數(shù)。簽名提到的具有多種額外獨特狀態(tài)的新型多態(tài)存儲單元能夠在一個單元中存儲更多信息,這種特性改變了反復(fù)耐久性的測試方法。

            ·漂移——這個參數(shù)衡量的是存儲單元的電阻隨時間變化的大小,通常要在各種溫度下進行測量。

            ·讀出干擾——這個參數(shù)衡量的是“讀數(shù)”過程對存儲數(shù)據(jù)的影響情況。測量脈沖的電壓必須低于0.5V。過高的電壓會導(dǎo)致讀出干擾問題。

            ·電阻-電流(RI)曲線——RI曲線(如圖2所示)是PCM特征分析過程中最常用的參數(shù)之一。對DUT發(fā)送一個脈沖序列(如圖3所示)。首先是一個RESET脈沖,將DUT的電阻設(shè)置為較高的值。然后是一個直流讀(即MEASURE)脈沖,脈沖幅值通常為0.5V或者更低,以避免影響DUT的狀態(tài)。接下來是一個SET脈沖和另外一個MEASURE脈沖。整個脈沖序列重復(fù)多次,其中SET脈沖的幅值逐漸增加到RESET脈沖的值。在圖2中的RI曲線中,注意觀察SET或RESET脈沖之后測量到的電阻值。這些值對應(yīng)著SET脈沖的電流標出。RESET值略高于1MΩ;根據(jù)SET電流大小的改變,SET電阻值的范圍從1兆歐到幾千歐不等。

            

          紅色的為RI曲線 www.elecfans.com

            圖2. 紅色的為RI曲線


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