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          NPB厚度對白光OLED性能的影響研究

          作者: 時間:2012-10-22 來源:網絡 收藏

          引言

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/167434.htm

          近年來,由于全球能源危機的,白光越來越受到科學界和人員的廣泛重視,因為它不僅能夠作為新一代的照明光源,而且還可以作為固體光源應用于制造全彩顯示器和顯示器的背光源。它具有節(jié)能、環(huán)保、可卷曲、輕薄和驅動電壓低等諸多優(yōu)點,因此受到業(yè)界人士的關注。白光的獲得大都通過混合三種顏色(紅、綠、藍)的小分子、聚合物或磷光材料或兩種補償色(天藍和橙黃)的材料到多層或單層結構中。大多數W都采用堆疊式結構或者單發(fā)光層多摻雜劑的結構。

          目前國內外的人員用不同方法制備了白光器件,如用聚合物PVK作為主體材料摻雜藍光染料和橙紅光染料的單一發(fā)光層,沒有空穴注入層和空穴傳輸層,陰極采用Mg2Ag合金陰極,這一方法制備出來的白光器件具有較好的白光發(fā)射,但是亮度和發(fā)光效率都較低,器件較為不好。國內的研究人員也做過一篇調整空穴傳輸層(4,42N,N2bis2N212naphthy12N2pheny12amino2bipheny1)的改善藍光OLED器件的文章,得出亮度會隨的增加而增加,對應的發(fā)光效率也有很大變化,從而得出對器件的發(fā)光很大。后來有人用了多發(fā)光層結構制備白光器件,通過調整空穴傳輸層的厚度使器件的性能有了較大改善,但是對比以ADN為主體摻雜兩種染料的單發(fā)光層,其結構復雜,操作程序繁瑣,控制誤差較大,同時發(fā)光層多,厚度增加,啟亮電壓增大,效率降低。

          實驗采用ADN作為主體材料,摻雜紅光和藍光染料的白光OLED體系制備器件,結果表明:這種結構制備出來的白光OLED器件具有較好的色穩(wěn)定性,并且發(fā)光效率也較高。曾有文章討論了發(fā)光層中的紅光摻雜劑DCJTB的摻雜濃度對器件性能的,并得出了白光OLED的較佳摻雜濃度的器件。本文將進一步討論空穴傳輸層厚度對基于ADN體系的白光OLED性能的影響,并對器件做進一步的優(yōu)化,這光照明及顯示的制備具有一定的指導作用。

          1 實驗

          實驗用材料為西安瑞聯近代電子材料有限公司的OLED專用高純化學品,對所用ITO導電玻璃基片進行了嚴格的清洗流程,分別用洗滌劑溶液、丙酮溶液、乙醇溶液和去離子水超聲清洗10min,然后在真空干燥箱中烘干。再將清潔而且干燥的ITO玻璃基片移入OLED2V型有機多功能真空成膜設備預處理室,在500V電壓下進行氧等離子體濺射處理5min,這樣有利于除去ITO表面的碳污染,并提高ITO的功函數,有利于空穴從ITO電極注入到有機材料中。預處理后的基片傳入真空腔體,有機材料和金屬陰極都在真空度為610×10-4Pa下依次進行蒸鍍,有機材料的蒸發(fā)速率為012nm/s,陰極Al/LiF的蒸發(fā)速率為1nm/s,使用SI2TM206型六通道膜厚監(jiān)測儀進行實時控制。

          電子傳輸層采用Alq3,是因為它具有高的電離能EA(約310eV)和電子親和能Ip(約5195eV)以及好的熱穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性,量子效率高且能夠通過真空蒸鍍的方法形成高質量無針孔的薄膜。發(fā)光層用兩種熒光材料藍與紅摻雜在主體材料ADN中,形成白光發(fā)射。

          TBPe是藍色發(fā)光材料,能夠有效地傳輸電子并且有效地阻止激基復合物的形成,提高效率。相關文獻表明DCJTB是目前最佳紅色染料,用DCJTB作為輔助摻雜劑,器件表現出了穩(wěn)定的電致發(fā)光EL效率。器件的結構以及能級結構圖如圖1所示。

          器件結構與能級結構圖

          圖1 器件結構與能級結構圖

          實驗制備了四組OLED器件

          A)ITO/22TNATA(15nm)/(15nm)/

          ADN(30nm):TBPe(2%):DCJTB(1%)/

          Alq3(20nm)/LiF(1nm)/Al(100nm);

          B)ITO/22TNATA(30nm)/NPB(15nm)/

          ADN(30nm):TBPe(2%):DCJTB(1%)/

          Alq3(20nm)/LiF(1nm)/Al(100nm);

          C)ITO/22TNATA(15nm)/NPB(35nm)/

          ADN(30nm):TBPe(2%):DCJTB(1%)/

          Alq3(20nm)/LiF(1nm)/Al(100nm);

          D)ITO/22TNATA(15nm)/NPB(40nm)/

          ADN(30nm):TBPe(2%):DCJTB(1%)/

          Alq3(20nm)/LiF(1nm)/Al(100nm)。

          在室溫、大氣環(huán)境下,測試以上四組未封裝器件,發(fā)光亮度采用ST2900B型光度計測量,器件的電致發(fā)光(EL)光譜特性使用杭州遠方光電信息有限公司的PMS280光譜分析系統(tǒng)進行測試,I2V特性曲線用直流電源DCPowerSupplyPS23003D進行測量。

          2 結果與討論

          從圖2中可以看出,四組器件的電流密度和發(fā)光亮度均隨驅動電壓的增加而增大,并且在高電場強度與正偏電壓呈指數關系,表現出典型的二極管整流特性。器件的電流密度和亮度隨著空穴傳輸層NPB厚度的變化而變化。當NPB的厚度分別為15,30和35nm時,電流密度相似,發(fā)光亮度隨著厚度的增加而逐漸增大,到35nm時亮度達到最大值14020cd/m2,擊穿電壓為1318V,當NPB厚度再增加到40nm后,電流密度突然下降,隨之器件的發(fā)光亮度也顯著下降,當下降到7790cd/m2,此時擊穿電壓為1313V。這一現象說明,NPB作為空穴傳輸層材料不能太厚,否則會影響載流子傳輸,降低器件的發(fā)光效率。圖2同時由表1也可以看出,隨著NPB厚度的增加,四組器件的啟亮電壓和擊穿電壓都逐漸增大,而電流效率(ηL)和功率效率(ηP)也都逐漸增加,到厚度35nm時為最佳值,分別為7181cd/A和2194lm/W;當厚度增加到40nm時,發(fā)光效率則明顯下降,此時最大電流效率在電壓為9V時為4181cd/A,功率效率為2173lm/W,功率效率的值均在電流密度為2815mA/cm2處獲得。

          器件的電流密度-電壓(J2V),亮度-電壓(L2V)與亮度-電流密度(L2J)特性曲線

          器件的電流密度-電壓(J2V),亮度-電壓(L2V)與亮度-電流密度(L2J)特性曲線

          圖2 器件的電流密度-電壓(J2V),亮度-電壓(L2V)與亮度-電流密度(L2J)特性曲線

          表1 四組器件的電致發(fā)光性能


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