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          歐盟資助未來制程開發(fā)專案
          
						
          
				作者：歐敏銓
				時間：2004-03-12
				來源：CTIMES
				
				
				
				
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          了突破半導體性能與集積度的極限，歐盟委員會決定對歐洲共同專案“NANOCMOS”提供資金援助。該專案將致力於材料、制程、元件及布線等領(lǐng)域的技術(shù)突破。
          本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/182760.htm

          據(jù)日經(jīng)BP社消息，目前叁加該專案的企業(yè)除歐洲三大半導體公司 - 德國英飛??科技（Infineon Technologies）、荷蘭飛利浦電子、意法半導體之外，還有法國原子能部電子技術(shù)資訊研究所（CEA Leti）、比利時IMEC、德國弗勞恩霍夫協(xié)會（FhG）旗下的三個研究所、法國國立科學研究中心（CNRS）旗下的八個研究所、德國獨開姆尼斯工科大學的研究所。此外，法國Ion Beam Services、德國ISILTEC、比利時Magwel公司也叁加了這一專案。負責專案管理業(yè)務(wù)的是法國ACIES Europe。
          

          NANOCMOS專案第一階段將耗時27個月，并將在2005年對在邏輯LSI技術(shù)節(jié)點上采用45nm（相當於hp65）制程的可行性進行論證。除歐盟委員會贊助2400萬歐元之外，各專案成員也將進行研究投資以實現(xiàn)專案目標。
          

          第二階段於2006年開始，將對實現(xiàn)32nm及22nm制程的可行性進行驗證。專案成員計劃向歐洲的研究組織--MEDEA+提議從2006年開始在300mm晶圓生設(shè)備中采用45nm技術(shù)節(jié)點并進行評估。從目前來看，可能會選擇摩托羅拉、飛利浦、意法半導體三公司共同投資的法國Crolles第二工廠。
          

          本文由 CTIMES 同意轉(zhuǎn)載，原文鏈接:http://www.ctimes.com.tw/DispCols/cn/45nm/TI/Infineon/Philips/04031217458L.shtmll
          
				
            
                
			
							
          
                
			              
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
            
				
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          關(guān)鍵詞：
            			            NANOCMOS
                        Crolles
                        
            
          
            
			
          
		
          	
		

	

          
	
	
          
		
          
			
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