EUV光刻技術(shù)或助力芯片突破摩爾定律

　　據(jù)美國(guó)科技博客Business Insider報(bào)道，在近50年的科技發(fā)展中，技術(shù)變革的速度一直遵循著摩爾定律。一次又一次的質(zhì)疑聲中，英特爾堅(jiān)定不移地延續(xù)著摩爾定律的魔力。

　　摩爾定律是由英特爾聯(lián)合創(chuàng)始人GordonMoore提出，內(nèi)容為：當(dāng)價(jià)格不變時(shí)，集成電路上可容納的晶體管數(shù)目，約每隔18個(gè)月便會(huì)增加一倍，性能也將提升一倍。換言之，每一美元所能買(mǎi)到的電腦性能，將每隔18個(gè)月翻兩倍以上。這一定律揭示了信息技術(shù)進(jìn)步的速度。

　　在幾十年來(lái)，芯片技術(shù)得以快速變革和發(fā)展，變得更加強(qiáng)大，節(jié)省了更多的空間和資源，這也使得電腦的速度成倍地變快、體積成倍地變小。

　　但有些物理專家表示，除非有某種技術(shù)的突破才能突破摩爾定律的限制。今天，英特爾等芯片廠商通過(guò)量子力學(xué)技術(shù)能夠在尖端芯片上擺放數(shù)十億個(gè)微處理器。

　　摩爾定律的延續(xù)已成為一個(gè)巨大挑戰(zhàn)，英特爾CEOBrianKrzanich給出的解決方案是——一種新的技術(shù)extremeultravioletlithography(EUV，極紫外線光刻技術(shù))，可以幫助英特爾繼續(xù)做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是，這說(shuō)起來(lái)容易做起來(lái)難。

　　荷蘭微影設(shè)備大廠ASML在2009年就公布了EUV光刻技術(shù)，但一直未有顯著的進(jìn)展，為推動(dòng)該技術(shù)的研發(fā)，在去年的夏天英特爾向其注資41億美元。

　　雖然在芯片創(chuàng)新的路上存在無(wú)數(shù)的挑戰(zhàn)和障礙，但是英特爾一直沒(méi)有停止過(guò)自己的腳步：上月中旬，英特爾在IDF上展示了在PC上運(yùn)行的14nmBroadwellCPU。日前，英特爾CEO稱，由于生產(chǎn)問(wèn)題，下一代Broadwell處理器將被推遲至明年發(fā)布。

　　另外，英特爾計(jì)劃在2015年采用10nm的晶體管，而到了2017年達(dá)到7nm，這些都是出奇的小。相比較而言，人身上的血細(xì)胞是7000nm，而一個(gè)DNA鏈為2.5nm。

　　英特爾目前還未過(guò)多的談?wù)?a class="contentlabel" href="http://www.ex-cimer.com/news/listbylabel/label/EUV">EUV光刻技術(shù)，可能涉及競(jìng)爭(zhēng)的原因等，但是，如果該技術(shù)被得以大范圍采用并推向市場(chǎng)，那么7nm芯片等都也將成為可能。